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發(fā)布時(shí)間:2021-03-18 05:46  
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對(duì)于真空鍍膜加工單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因
主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。?
另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等等也會(huì)造成膜色差異問(wèn)題。?
改善思路:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。
改善對(duì)策:?
㈠?條件許可,用行星夾具;?
㈡?選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái);?
㈢?根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。?
㈣?如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng),也可改善單片的膜色均勻性。?㈤?改善鏡圈(),防止遮擋。?
㈥?注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋?㈦?清潔鏡圈()?㈧?改善膜料蒸發(fā)狀況。
pvd真空鍍膜五金真空鍍膜廠
pvd真空鍍膜的功能原理是什么?
pvd真空鍍膜的原理主要是物理氣相沉積,其是當(dāng)前國(guó)際上廣泛應(yīng)用的先進(jìn)的表面處理技術(shù)。其工作原理就是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基材上。
pvd真空電鍍具有沉積速度快和表面清潔的特點(diǎn),特別具有膜層附著力強(qiáng)、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。
PVD鍍膜技術(shù)在鎖具行業(yè)基材上做表面改性裝飾與耐用效果。水電鍍無(wú)法做到的,真空技術(shù)幾乎都可以實(shí)現(xiàn)各種顏色效果,環(huán)保工藝。而且鎖具加工真空鍍膜技術(shù)加工在整體顯得大氣,讓人類生活多姿多彩。
真空PVD鍍膜技術(shù)在手機(jī)外殼/中框及配件
手機(jī)外殼與及中框、攝像頭保護(hù)圈,槽,音量按鍵,電源開(kāi)關(guān)鍵等裝飾件在不銹鋼基材上采用真空PVD鍍膜技術(shù),加強(qiáng)使用耐磨硬度和顏色多種選擇。