為了保證化學(xué)拋光的效果，必須使金屬表面溶解，并在表面上形成液體膜或固體膜。因此，金屬的化學(xué)拋光液必須具有溶解金屬的能力和形成保護(hù)膜的能力?；瘜W(xué)拋光液的基本組成一般包括腐蝕劑、氧化劑、添加劑和水。腐蝕劑是主要成分，如果零件在溶液中不溶解，拋光就不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制腐蝕過(guò)程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對(duì)拋光液濃度起調(diào)節(jié)作用，便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。

拋光三環(huán)節(jié)研磨、拋光、還原各環(huán)節(jié)具體含義及質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：1、 研磨：通過(guò)表面預(yù)處理清除漆面上的污物，消除嚴(yán)重氧化、細(xì)微劃痕及表面缺陷，工藝大多采用水砂紙去除表面瑕疵，一般使用3M 1500-2500皇牌水砂紙。隨著人工成本的提高，水磨砂紙研磨效率不高，使用后砂紙痕較重的問(wèn)題開始凸顯，一些主流站開始采用3M 金字塔砂紙，P1500和P3000砂紙，使用干磨機(jī)拋光半濕磨的方式進(jìn)行研磨，無(wú)砂紙痕的殘留，機(jī)械化操作，可極大的提高拋光效率。具體步驟如下：a, 缺陷去除。漆面噴灑少量水，使用P1500金字塔砂紙配合干磨機(jī)整體上下左右各一遍，漆面呈亞光狀態(tài)；打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面的白沫，觀察漆面，找出突顯的缺陷，再在砂碟上噴灑少量水，去除缺陷。b, 漆面過(guò)細(xì)。使用干磨機(jī)配合P3000金字塔砂碟和干磨軟墊過(guò)細(xì)打磨過(guò)的漆面，在砂碟和漆面上噴灑一定量的水，以較快的移遮蔽保護(hù)動(dòng)速度，按上下左右順序各兩道打磨整個(gè)漆面。打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面水和白沫。

隨著環(huán)保意識(shí)及法規(guī)的加強(qiáng)，目前越來(lái)越多的工廠選擇兩酸拋光工藝。但是兩酸在3C產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中存在以下問(wèn)題：1.當(dāng)拋光液中鋁離子濃度超過(guò)16g/L時(shí)，拋光帶有通孔或盲孔的噴砂工件時(shí)會(huì)產(chǎn)生拋痕，尤其當(dāng)噴砂工件為Al5252材質(zhì)的鋁合金時(shí)拋痕更為明顯。2.對(duì)經(jīng)T處理的鋁塑復(fù)合件拋光時(shí)鋁塑交界處易出現(xiàn)不均勻，塑料件易發(fā)黃。3.鋁合金工件在自動(dòng)拋光線上拋光時(shí)在工件轉(zhuǎn)移過(guò)程中所需時(shí)間通常在18秒以上，鋁型材化拋生產(chǎn)線轉(zhuǎn)移所花的時(shí)間更長(zhǎng)通常在30秒以上，在轉(zhuǎn)移過(guò)程中由于拋光液的滴趟會(huì)在表面形成不規(guī)則的流痕，影響外觀效果。

化學(xué)拋光的優(yōu)缺點(diǎn)：

1：優(yōu)點(diǎn)： 操作簡(jiǎn)便、快速，無(wú)需儀器。拋光后試樣表面無(wú)變形層，可拋光經(jīng)鑲嵌后的試樣，也可同時(shí)拋光試樣的縱、橫斷面?；瘜W(xué)拋光時(shí)兼有化學(xué)侵蝕作用，因此多數(shù)情況下能同時(shí)顯示組織，拋光結(jié)束之后可以觀察組織，不需再做侵蝕顯示。

2：缺點(diǎn)：拋光液容易失效，溶液消耗快。拋光結(jié)果不是太佳，試樣的棱角易受蝕損，拋光面易出現(xiàn)微小波紋起伏，高倍觀察時(shí)受到影響