同電解拋光比較，化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源，可以處理形狀更為復(fù)雜的零件，生產(chǎn)等，但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量，一般略低于電解拋光，溶液的調(diào)整和再生也比較困難，往往拋光過(guò)程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。

化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒(méi)有太大差別。

化學(xué)方法拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，能夠處理直徑比較小的細(xì)管、帶有深孔的形狀復(fù)雜的零件。多數(shù)金屬的化學(xué)拋光溶液都采用各種酸，生產(chǎn)過(guò)程中散發(fā)出大量酸霧污染環(huán)境，在使用上受到一定的限制。

　化學(xué)拋光

化學(xué)拋光是金屬制品表面在特定條件下化學(xué)侵蝕的過(guò)程。金屬表面上微觀的凸起處在特定溶液中的溶解速度比微觀凹下處的大得多。結(jié)果逐漸被整平而獲得平滑、光亮的表面。根據(jù)基體材料的不同，化學(xué)拋光液的配制以及具體的操作工藝也不相同，應(yīng)該視情況而定。表2.5是不同基體材料的化學(xué)拋光工藝。

化學(xué)拋光依靠化學(xué)浸蝕作用,對(duì)金屬制品在特定的條件下進(jìn)行拋光叫化學(xué)拋光。金屬表面微觀凸起處在特定溶液中的溶解速度比微觀下凹處大得多,這樣,便逐步整平而獲得平滑、光亮的基體表面?；瘜W(xué)拋光可以用于儀器制造、鋁質(zhì)反光鏡的制造以及其他零件或鍍層的裝飾性加工。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。

化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等?；瘜W(xué)拋光對(duì)鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對(duì)于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件，可采用化學(xué)拋光。

化學(xué)拋光工藝流程

　　 化學(xué)(或電化學(xué))除油→熱水洗→流動(dòng)水洗→除銹(10%硫酸)→流動(dòng)水洗→化學(xué)拋光→流動(dòng)水洗→中和→流動(dòng)水洗→轉(zhuǎn)入下道表面處理工序

操作簡(jiǎn)便、快速，無(wú)需專用儀器。拋光后試樣表面無(wú)變形層，可拋光經(jīng)鑲嵌后的試樣，也可同時(shí)拋光試樣的縱、橫斷面?；瘜W(xué)拋光時(shí)兼有化學(xué)侵蝕作用，因此多數(shù)情況下能同時(shí)顯示組織，拋光結(jié)束之后可以觀察組織，不需再做侵蝕顯示。

一般認(rèn)為，在電化學(xué)拋光時(shí)，金屬制品表面同時(shí)處于兩種狀態(tài)之下：微觀凸起處的金屬表面處于活化狀態(tài)，該處的溶解速度大;微觀凹處表面處于鈍化狀態(tài)，該處的金屬溶解速度小，這樣，經(jīng)電化學(xué)拋光處理一段時(shí)間后，制品表面的微凸起處便被整平，出現(xiàn)光亮的外觀。