手機(jī)納米膜真空鍍膜與電鍍的區(qū)別

真空鍍膜又稱真空離子鍍，是不采用溶液或電能液而制備薄膜的一種全新的干式鍍膜方法。過(guò)去物體表面鍍制薄膜作為物體表面改性的手段是采用濕式的電鍍發(fā)或化學(xué)鍍法。

在電鍍法中，被電解的離子鍍到作為電解液中另一個(gè)電機(jī)的被鍍件表面上而成膜，因此，其基體必須是良導(dǎo)體，度也難以控制。

(1)水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等，五花八門(mén)的七彩色就無(wú)能為力了;而真空電鍍可以解決七彩色的問(wèn)題，可鍍金色、紅色、藍(lán)色等各種顏色。

(2)真空鍍膜的附著力(附著強(qiáng)度)好，膜層十分牢固，不易脫落。

(3)真空鍍膜的膜材和基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。

(4)電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價(jià)鉻”，這是非環(huán)保材料，無(wú)法出口歐美市場(chǎng)，而真空電鍍的鍍層材質(zhì)為鋁，安全環(huán)保，能達(dá)到歐美市場(chǎng)的環(huán)保監(jiān)測(cè)指標(biāo)。

蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)的原理及性能,你了解多少?

電鍍?cè)O(shè)備真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、管道和閥門(mén)組成。目前所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應(yīng)加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。

為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機(jī)構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)裝置，如用行星運(yùn)動(dòng)方式，這種運(yùn)動(dòng)方式成膜均勻性好，臺(tái)階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運(yùn)動(dòng)方式。蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。

真空鍍膜設(shè)備工件是怎么去除氣的呢？

真空鍍膜設(shè)備如何操作,它的工件該怎么除氣

真空鍍膜產(chǎn)品普及到生活方方面面，真空鍍膜設(shè)備也就要求越來(lái)越高，很早以前物品鍍膜，只是為了耐用，防老化，隨著時(shí)間的推移，鍍膜現(xiàn)在不僅僅只是耐用，更多外形上的美觀。因此現(xiàn)在膜層已經(jīng)花樣百出，顏色各不相同，甚至不同行業(yè)的，鍍膜設(shè)備的型號(hào)和功能也不盡相同，自然鍍膜工程師技術(shù)要求更高。然后鍍膜設(shè)備在運(yùn)行的過(guò)程中，鍍膜工程師總會(huì)遇到工件除氣的問(wèn)題，下面至成真空小編為大家講解一下真空鍍膜設(shè)備的操作方法及工件該如何去除氣。

真空鍍膜設(shè)備操作，大家剛開(kāi)始接觸的時(shí)候，先記住步驟，后面再慢慢實(shí)踐，我們?cè)跍?zhǔn)備操作鍍膜設(shè)備的時(shí)候，首先要檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置，然后打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電，再接著低壓閥拉出，開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。這時(shí)安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物，接著落下鐘罩，啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵，后面就要開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號(hào)：Fzh-1A)。設(shè)備當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。繼續(xù)開(kāi)通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。低壓閥拉出時(shí)，立式單開(kāi)門(mén)鍍膜機(jī)重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。