由于感光油墨的主體樹脂含有親水基團(tuán)，在堿水溶液中溶解性很好，通常用1%-1.5%的碳酸鈉水溶液顯影，將未見紫外光部分的油墨溶解掉。在顯影過程中，溫度對油墨的溶解速度影響很大，提高顯影溫度要比提高碳酸鈉水溶液的濃度，對顯影速度來說將要快得多。通常把顯影液溫度控制在30-34攝氏度為zui佳范圍。顯影時(shí)間為15-32min。如果溫度過低，未感光的油墨溶解得太慢，制品上會留下余墨;若溫度過高，會使光固化部分的墨膜受到損害或使線條變形，影響墨膜的機(jī)械強(qiáng)度，使抗電鍍和抗蝕性能下降。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻的原理是氧化bai還原反應(yīng)中的置換反應(yīng)：2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。顯影就是在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時(shí)，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時(shí)，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。

非曝光區(qū)的光刻膠由于在曝光時(shí)并未發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在顯影時(shí)也就不會存在這樣的酸堿中和，因此非曝光區(qū)的光刻膠被保留下來。經(jīng)過曝光的正膠是逐漸溶解的，中和反應(yīng)只在光刻膠的表面進(jìn)行，因此正膠受顯影液的影響相對比較小。進(jìn)行顯影的方式有很多種，廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個(gè)階段：硅片被置于旋轉(zhuǎn)臺 上，并且在硅片表面上噴灑顯影液；然后硅片將在靜止的狀態(tài)下進(jìn)行顯影；顯影完成后，需要經(jīng)過漂洗，之后再烘干。


多年來，人們總是認(rèn)為電路板層數(shù)越少成本就越低，但是影響電路板的制造成本還有許多其它因素。近幾年來，多層板之間的成本差別已經(jīng)大大減小。在開始設(shè)計(jì)時(shí)盡量采用較多的電路層并使敷銅均勻分布，以避免在設(shè)計(jì)臨近結(jié)束時(shí)才發(fā)現(xiàn)有少量信號不符合已定義的規(guī)則以及空間要求，從而被添加新層。在設(shè)計(jì)之前認(rèn)真的規(guī)劃將減少布線中很多的麻煩。