PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

PVD鍍膜膜層的特點：采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

1.熱鍍純鋅鍍層(Z)hot‐dip zinc coating

熔融池金屬液體中的鋅含量應不小于99%。

熱鍍純鋅工藝可以生成不同尺寸的鋅花，鋅花影響表面感官，但不影響耐蝕性。

鍍鋅厚度是怎么計算出來的呢？鋅的密度是7.14 g/cm^3，折算成鍍鋅厚度與每平米重量的關系為：1μm≈7.14g/m2，比如單面鋅量厚度是50 μm（微米），即單面鍍鋅重量為50×7.14=357 g/m^2。