等離子干法刻蝕技術(shù)是利用等離子體進(jìn)行薄膜微細(xì)加工的技術(shù)。在典型的干法刻蝕工藝過程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應(yīng)腔室中，在外部能量作用下（如射頻、微波等）形成等離子體，干法刻蝕技術(shù)由于具有良好的各向異性和工藝可控性已被廣泛應(yīng)用于微電子產(chǎn)品制造領(lǐng)域，憑借在等離子體控制、反應(yīng)腔室設(shè)計(jì)、刻蝕工藝技術(shù)、軟件技術(shù)的積累與創(chuàng)新，北方華創(chuàng)微電子在集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)封裝、功率半導(dǎo)體等領(lǐng)域可提供高端裝備及工藝解決方案。形成了對硅、介質(zhì)、化合物半導(dǎo)體、金屬等多種材料的刻蝕能力，其中應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域的硅刻蝕機(jī)已突破14nm技術(shù)，進(jìn)入主流芯片代工廠，其余各類產(chǎn)品也憑借其優(yōu)異的工藝性能成為了客戶的。

濟(jì)南藍(lán)光同茂廣告標(biāo)牌設(shè)備公司

公司的全自動環(huán)保蝕刻機(jī)成功應(yīng)用于濟(jì)南重汽,特變電工, 濟(jì)南泉城廣場,山東大學(xué),山東農(nóng)業(yè)大學(xué),電力集團(tuán)等。設(shè)備銷往世界各地：迪拜、泰國、越南、印尼、新加坡、西班牙等，公司主營：蝕刻機(jī),標(biāo)牌機(jī),腐蝕機(jī),大型熱轉(zhuǎn)印機(jī),立體玻雕機(jī)、印刷設(shè)備等全系列新型數(shù)控標(biāo)識設(shè)備、技術(shù)開發(fā)、專業(yè)培訓(xùn)，是數(shù)碼標(biāo)識配套設(shè)備供應(yīng)商，公司產(chǎn)品連續(xù)多年榮獲山東消費(fèi)者滿意單位稱號。

這倆機(jī)器的解釋就是光刻機(jī)把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機(jī)再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來似乎沒什么難的,但是有一個(gè)形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結(jié)構(gòu)放大無數(shù)倍來看比整個(gè)北京都復(fù)雜,這就是這光刻和蝕刻的難度

目的：除去工件表面的防銹油、潤滑油、乳化液及工作人員分泌的汗?jié)n油脂等。

成份組成：、碳酸鈉等堿性物質(zhì)及十二烷基磺酸鈉等。

脫脂不完全會影響后面涂布工序中保護(hù)膜與工件的接合力，以致在蝕刻過程中保護(hù)膜脫落造成工件的損壞。

涂布感光油墨。

可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時(shí)對產(chǎn)品需保護(hù)部位得到充分的保護(hù)。

不管是蝕刻區(qū)是4米還是長至10米或更長，蝕刻藥液必須是連通，且噴淋泵要設(shè)計(jì)成交叉噴淋，它的作用就是增加的循環(huán)量。當(dāng)然僅是交叉噴淋還是不夠的，越長的蝕刻機(jī)，還需要單獨(dú)配置循環(huán)泵，其意義就是讓每個(gè)蝕刻機(jī)內(nèi)的各參數(shù)保持一樣，我們通常要求每小時(shí)至少要有6個(gè)循環(huán)量來確保藥液充分循環(huán)，這樣每個(gè)噴淋泵噴出來的是一樣的，那么做出來的產(chǎn)品也就穩(wěn)定。