化學氣相沉淀化學氣相沉淀 (CVD) 系統(tǒng)具有 多種配置用于沉積多種類型的薄膜。制程 還以不同的壓力和流量狀態(tài)運行，其中的許多狀態(tài) 都使用含氟的干燥清潔制程。先進的軸封技術，處理艙中不會出現(xiàn)油污染防腐型泵送機械裝置采用高等級鑄鐵制造。所有這些可變因素意味著您 需要咨詢我們的應用工程師之一來選擇適當?shù)谋?和氣體減排系統(tǒng)以便大程度地延長我們產(chǎn)品的維修間隔并 延長您制程的正常運行時間。

干泵選擇

CVD 制程通常需要通過選擇適當?shù)?干泵產(chǎn)品來克服四個特定挑戰(zhàn)。這些挑戰(zhàn)是：

粉末

許多制程會產(chǎn)生 大量粉末副產(chǎn)品。需要將真空泵設計成 能夠處理這些粉末而不被卡住。在某些情況下，粉末實際上可能 很粘或需要高溫運行才能確保粉末中夾帶的其他 副產(chǎn)品不在泵內(nèi)部冷凝并卡住泵機構。Drystar系統(tǒng)的非接觸式裝置減少了磨損和維護，開機時間更長，抽空時間更短。 對于幾乎所有產(chǎn)生粉末的制程，您將不得不使用 采用高扭矩電機的泵，以確保泵在應力下保持 旋轉(zhuǎn)。

冷凝

半導體 制程的某些副產(chǎn)品含有氣體，當氣體分壓 增加或與冷表面接觸時，這些氣體會從氣 相變?yōu)楣滔?。在泵送這些副產(chǎn)品時， 您將需要非常熱的泵，是從入口到出口 具有盡可能一致的溫度分布的泵。

腐蝕

有些制程 需要泵送鹵化物。尤其是需要含氟的清潔制程來 保持艙室的清潔性，但被激的氟自由基 可能會侵蝕泵的內(nèi)表面。如果制程主要使用 可能對泵造成腐蝕的化學品，您需要確?？梢?將泵溫度設置為一個較低值以降低腐蝕風險。我們的泵設計 具有可選的溫度設定點和高旋轉(zhuǎn) 速度以降低腐蝕風險并降低泵中不可避免 發(fā)生的總體材料損失速率。摘要：設備安裝與試運轉(zhuǎn)設備監(jiān)控和預防性維護設備維修與升級備件和附件產(chǎn)品培訓和建議可提高性能和效率的升級物流管理，可簡化供應鏈緊急熱線和服務支持-包括正常工作時間外的支持服務。對于某些 CVD 制程，需要在溫度設定點上 達到平衡，以確保避免任何冷凝問題， 同時不使腐蝕速度過高。

設備的參數(shù)相同，但是真空泵內(nèi)在的技術不一樣，所以可靠性還有噪音震動，這些方面的數(shù)據(jù)也都會存在差異，我們作出選擇的過程中，盡量的去選擇那些可靠性更高，噪聲更低，震動更小的設備應用的過程中，才能夠給我們帶來了更多的保障，如果設備內(nèi)在的技術不成熟，使用的過程中存在著各種問題，那么不僅會對周圍的環(huán)境帶來影響，也會給我們造成不利的問題發(fā)生，因此大家應該正確的去認識。制程還以不同的壓力和流量狀態(tài)運行，其中的許多狀態(tài)都使用含氟的干燥清潔制程。