真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時間有一個采購光學(xué)鍍膜機的客戶簽訂協(xié)議的時候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓(xùn)了大量的設(shè)備相關(guān)的操作知識和注意事項，客戶也學(xué)到了不少相關(guān)的知識。今天至成真空小編也再次詳細(xì)和大家講解一下真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上應(yīng)該注意的事項，加強大家的設(shè)備方面的知識和技能。

真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當(dāng)光線進入不同傳遞物質(zhì)時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學(xué)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實現(xiàn)。

人們對增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學(xué)、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進步作出了重大貢獻。

多弧離子真空鍍膜機的由來

我國在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于國外先進水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術(shù)的研發(fā)成功，將打破國內(nèi)機械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術(shù)的被動局面；對提高我國裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環(huán)境保護起到很好的作用。

目前，國際上機械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術(shù)，但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應(yīng)用性能；特別是國內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問題尤為嚴(yán)重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過濾技術(shù)，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細(xì)膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層；在進行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差，必須過量通入反應(yīng)性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學(xué)反應(yīng)），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。

真空PVD鍍膜涂層工藝?yán)鋮s如何進行？

1.高閥關(guān)閉，真空計關(guān)閉，真空室與泵組隔離；

2.當(dāng)操作人員按下N2vent按鈕，預(yù)先接好的氮氣會通過N2充氣閥充入真空室，當(dāng)真空室內(nèi)的壓力達到壓力開關(guān)預(yù)設(shè)的壓力時，N2充氣閥關(guān)閉。

3.真空室內(nèi)充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導(dǎo)，所以降溫速度比不充冷卻N2時快很多，縮短冷卻時間，提高生產(chǎn)效率，實際冷卻時間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導(dǎo)率更高，所以充入冷卻氦氣比氮氣降溫速度更快，但是成本也更高。

5.國外設(shè)備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環(huán)冷卻，能縮短冷卻時間50%。

為什么要進行壓升率測試？

真空環(huán)境條件是影響終涂層質(zhì)量重要的因素。鍍膜前，必須進行壓升率測試，以保證真空環(huán)境條件滿足鍍膜標(biāo)準(zhǔn)。

怎樣進行壓升率測試？

在我們的自動鍍膜工藝中，壓升率測試是自動進行。當(dāng)真空室內(nèi)真空度達到工藝設(shè)定的本底真空后，進入壓升率測試步驟。

系統(tǒng)會自動關(guān)閉高閥，此時真空室與泵組隔離，真空室內(nèi)壓力會升高。在一定時間內(nèi)（一般1分鐘），如果壓力不超過設(shè)定的報警值，系統(tǒng)會自動進行下一步程序，進入鍍膜步驟。如果壓力超過設(shè)定的報警值，系統(tǒng)會有報警提示，此時，操作人員應(yīng)按照操作流程，再次進行抽真空和加熱烘烤，然后重復(fù)進行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。