8噸軟化超濾設(shè)備_副本

反滲透設(shè)備技術(shù)跟原理介紹 反滲透水處理系統(tǒng)技術(shù)是上世紀(jì)60年代由美國企業(yè)投資十幾億美元產(chǎn)品研發(fā)設(shè)計出來的一種水處理工程技術(shù)，該技術(shù)原先只是應(yīng)用在高新科技發(fā)展領(lǐng)域。后來，開始慢慢發(fā)展并應(yīng)用于制藥和化學(xué)工業(yè)，苦咸水淡化、淡水凈化、濃縮、分離等行業(yè)。 8噸軟化超濾設(shè)備_副本.jpg 反滲透技術(shù)介紹： 該技術(shù)是將相同體積的稀溶液跟濃溶液分別置于同容器的兩側(cè)，然后中間放置半透膜，稀溶液自然回穿過半透膜進(jìn)入到濃溶液側(cè)，而濃溶液的側(cè)壓力跟稀溶液另側(cè)構(gòu)成個壓力差產(chǎn)生個浸透均衡壓力，這種壓力被稱之為浸透壓，若濃溶液側(cè)施加大于浸透壓的壓力時，濃溶液中的液領(lǐng)會向稀溶液側(cè)活動，這種活動方向跟原先的浸透方向相反，所以該技術(shù)被稱之為反浸透技術(shù)。

反滲透設(shè)備運行中為什么要添加阻垢劑

反滲透設(shè)備運行中為什么要添加阻垢劑 分散功能：有阻垢劑時，小顆粒析出的顆粒較無阻垢劑析出的顆粒難以團聚。 晶格變形效應(yīng)：在體系中具有阻垢沉淀的球形、多面體、雪花狀等非晶態(tài)。一般認(rèn)為，在晶體生長過程中，阻垢劑在晶體生長點上的吸附會大大降低晶體的生長速度。 低限效應(yīng)阻垢劑的投加量相當(dāng)于水中結(jié)垢成分低得多也能顯示出阻垢效果。 阻垢劑可以防止反滲透設(shè)備中雜質(zhì)的沉淀和結(jié)垢的形成，大大改善過濾系統(tǒng)，提高水的質(zhì)量和產(chǎn)量，為節(jié)約水和能源做出突出貢獻(xiàn)。

反滲透設(shè)備的清洗流程

反滲透設(shè)備的清洗流程 1、配制清洗液 將藥劑加入潔凈的水中，且配制用水要是除去硬度、過度金屬和余氯的RO產(chǎn)品水或去離子水。確認(rèn)溶液要混和均勻，并且把溫度和PH調(diào)到所需要的值。 2、低流量輸入清洗液 先用清洗水泵混合一遍清洗液，預(yù)熱清洗液時應(yīng)以低流量。然后以盡可能低的清洗液壓力置換元件內(nèi)的原水，其壓力需達(dá)到使得補充進(jìn)水至濃水的壓力損失就可。 3、循環(huán) 當(dāng)原水被置換掉后，濃水管路中就應(yīng)該出現(xiàn)清洗液，讓清洗液循環(huán)回清洗水箱并確認(rèn)清洗液溫度恒定。 4、浸泡 停止清洗泵的運行，讓反滲透設(shè)備膜元件浸泡在清洗液中。有時元件浸泡1小時，但對于頑固的污染物，需要增加浸泡時間。 5、高流量水泵循環(huán) 循環(huán)30～60分鐘以后，用高流量沖洗污染物。在高流量條件下，將會出現(xiàn)過高壓降的問題，反滲透設(shè)備單元件允許的壓降為１bar，對多元件壓力容器允許壓降為35ba。 6、沖洗 用清潔水進(jìn)行低壓沖洗，沖洗系統(tǒng)內(nèi)的清洗液可以用預(yù)處理的合格產(chǎn)水，除非存在腐蝕問題。