鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法

陰極電流密度過大 在鍍鉻過程中，陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關系。在同一溶液中鍍鉻時，通過調整溫度和電流密度，并控制在適當的范圍內，可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層。在低溫高電流密度區(qū)，鉻鍍層呈灰暗色或燒焦，這種鍍層具有網狀裂紋、硬度大、脆性大；高溫低電流密度區(qū)，鉻層呈乳白色，這種組織細致、氣孔少、無裂紋，防護性能較好，但硬度低，耐磨性差；中溫中電流密度區(qū)或兩者配合較好時，可獲得光亮鍍鉻層，這種鉻層硬度較高，有細而稠密的網狀裂紋。若配合不當，對鍍鉻溶液的陰極電流效率、分散能力、鍍層的硬度和光亮度都有很大的影響。如鍍液溫度高達70℃左右，那么即使升高電流密度，也難以得到光亮的鍍層。生產上一般采用中等溫度(45～60℃)與中等電流密度(30～45A／dm2)以得到光亮度和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍取光亮鍍層的工藝條件相當寬，但考慮到鍍鉻液的分散能力特別差，在形狀復雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時，要在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層，必須嚴格控制溫度和電流密度。當鍍鉻工藝條件確定后，鍍液的溫度變化控制在±2℃以內。

在鍍硬鉻時，也常因聯合力不好而孕育產生鍍層起皮征象。由于鍍鉻的電流效率低，在陰極上大量析出氫氣，對付易析氫的鋼鐵部件，應在鍍后180～200℃的溫度，除氫3h，以克制產生氫脆。 鍍液中雜質影響及去除鍍鉻電解液中常見的有害雜質緊張是Fe3十、Cu2十、Zn2 、Pb2 、Ni2 等金屬離子和Cl一、NO3-。 鍍鉻進程中，由于利用不溶性陽極，陰極電流效率又很低，致使大量氫氣和氧氣析出，當氣體逸出液面時，帶有大量的，形成鉻霧造成緊張的污染。

化學鍍包括鍍鎳、鍍銅、鍍金、鍍錫等很多鍍種，但應用范圍相當廣的還是化學鍍鎳。由于化學鍍鎳層具有很好的均勻性、硬度、耐磨和耐蝕性等綜合物理化學性能，該項技術已經得到廣泛應用，幾乎難以找到一個工業(yè)不采用化學鍍鎳技術。

電鍍鎳的特點、性能、用途：

電鍍鎳層在空氣中的穩(wěn)定性很高，由于金屬鎳具有很強的鈍化能力，在表面能迅速生成一層極薄的鈍化膜，能抵抗大氣、堿和某些酸的腐蝕。

光亮鎳

鍍光亮鎳有很多優(yōu)點﹐不僅可以省去繁重的拋光工序﹐改善操作條件﹐節(jié)約電鍍和拋光材料﹐還能提高鍍層的硬度﹐便于實現自動化生產﹐但是光亮鍍鎳層中含硫﹐內應力和脆性較大﹐耐蝕性不如鍍暗鎳層﹐為了克服這些缺點﹐可采用多層鍍鎳工藝﹐使鍍層的機械性能和耐蝕性得到顯著的改善。

根據化學鍍鎳生產廠家的分析，根據工件的重要性，可以選擇新舊鍍液進行不同的處理，也可以用舊鍍液進行預鍍，取出后放入新鍍液中進行電鍍，特別是在鋁基體工件上鍍覆時，這種方法可以延長鍍液的使用壽命。工件入槽時，應采用小批量同時入槽的方法，并記錄每批入槽的準確時間。電鍍時間長度應根據鍍層厚度要求確定。電鍍時間必須通過測量小試樣的電鍍厚度和電鍍速度來確定。工件放入鍍液后，應經常搖動攪拌。嚴禁相互接觸、碰撞。同時，工件的放置位置應不斷變化。

膜層具有耐蝕的優(yōu)點，能很好的保護產品不受損害，可以耐度的高溫、硬度高、干潤滑性。