雙室磁控濺射系統(tǒng)

想了解更多關(guān)于磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊，請持續(xù)關(guān)注本公司。

設備簡介

主要特點是設備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內(nèi)最優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進行配置，比較靈活；標配4只Φ2英寸永磁靶，4臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。所不同的是電場方向，電壓電流大小而已沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司本著多年磁控濺射產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗，專注磁控濺射產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進的磁控濺射產(chǎn)品生產(chǎn)設備和技術(shù)，建立了嚴格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話。

直流磁控濺射技術(shù)的原理

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司——專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，我們公司堅持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產(chǎn)品求發(fā)展，以質(zhì)量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

直流磁控濺射技術(shù)其原理是：在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。不管平衡還是非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定了一般靶材利用率小于30%。同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點。