佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：

鍍膜時(shí)間：膜層厚度隨鍍膜時(shí)間的增加而增加,但不是線形增加,當(dāng)厚度達(dá)到一定的時(shí)候,增加速度會(huì)變慢后基本停止,而且鍍膜時(shí)間越長(zhǎng)膜層應(yīng)力越大.外觀越差。

送氣方式和氣體流量：采用從少到多逐步增加氣體流量的方式加氣使膜層從金屬逐漸過(guò)渡到化合物是很好的一種加氣方式，如做黑膜這樣還可以延緩靶，使顏色做得更深。

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電子束蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為：①電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠(yuǎn)比電阻加熱源更大的能量密度?？梢允垢呷埸c(diǎn)（可高達(dá)3000°C以上）材料蒸發(fā)，并且能有較高的蒸發(fā)速度；②由于被蒸發(fā)材料是置于水冷堆鍋內(nèi)，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應(yīng)，這對(duì)提高鍍膜的純度極為重要；③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱，熱傳導(dǎo)和熱輻射的損失少。離子鍍密度大，無(wú)氣孔但膜層缺陷較多，附著性很好，內(nèi)應(yīng)力視工藝條件而定，繞射性較好。

光學(xué)薄膜應(yīng)用反應(yīng)磁控濺射技術(shù)已有多年，中頻閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。特別是透明導(dǎo)電玻璃目前廣泛應(yīng)用于平板顯示器件、太陽(yáng)能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。

用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。