真空鍍膜的前處理是指對(duì)目標(biāo)產(chǎn)品進(jìn)行清潔。比如一把刀具，肉眼可見(jiàn)的和肉眼不可見(jiàn)的細(xì)微小孔都會(huì)藏有影響膜層質(zhì)量的異物。所以對(duì)產(chǎn)品的前處理的要求是非常嚴(yán)格的，因?yàn)橹挥型耆逑锤蓛舻漠a(chǎn)品才能避免產(chǎn)品“脫鈦”。車(chē)間的揚(yáng)塵、空氣中的水氣等等看似很細(xì)微的因素都是影響膜層質(zhì)量的重要原因。在鍍膜的過(guò)程中就算是一個(gè)小小的灰塵附著在產(chǎn)品表面，那么鍍出來(lái)的膜層就會(huì)產(chǎn)生白點(diǎn)，嚴(yán)重的還會(huì)造成膜層的脫落。所以，車(chē)間空氣潔凈度一定要達(dá)標(biāo)。

霍爾離子源的特征在哪?

首先陰極在離子源腔內(nèi)產(chǎn)生等離子體，然后通過(guò)兩三層陽(yáng)極柵將離子從等離子體腔中抽出。該離子源方向性強(qiáng)，離子能量帶寬集中，可廣泛應(yīng)用于真空鍍膜。缺點(diǎn)是陰極(通常是鎢絲)在反應(yīng)氣體中很快燒壞，離子通量有限，可能會(huì)讓需要大離子通量的用戶不舒服?；魻栯x子源是一種陽(yáng)極，在強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的作用下對(duì)過(guò)程氣體進(jìn)行等離子體處理。這種軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)烈不平衡分離了氣體離子并形成離子束。由于軸向磁場(chǎng)太強(qiáng)，霍爾離子源的離子束需要補(bǔ)充電子來(lái)中和離子電流。常見(jiàn)的中和源是鎢絲(陰極)?；魻栯x子源的特征在于：

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積(PVD)技術(shù)和有機(jī)化學(xué)液相

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積(PVD)技術(shù)和有機(jī)化學(xué)液相堆積(有機(jī)化學(xué)液相堆積)技術(shù)兩類。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標(biāo)準(zhǔn)下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結(jié)構(gòu)或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎(chǔ)表層的方式。硬反映膜主要基于物理學(xué)液體的堆積。利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過(guò)程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉(zhuǎn)移全過(guò)程。物理學(xué)液相堆積技術(shù)具有薄膜/底材結(jié)合性好、塑料薄膜均勻高密度均勻、塑料薄膜厚度可控性好、運(yùn)用目標(biāo)廣、磁控濺射復(fù)蓋面廣、塑料薄膜堆積厚、鋁合金塑料薄膜平穩(wěn)、可重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)。有機(jī)化學(xué)液相堆積技術(shù)是將塑料薄膜的原素蒸汽和原素的化學(xué)物質(zhì)展示在基礎(chǔ)上，根據(jù)液相效果和基礎(chǔ)表層的化學(xué)變化，在基礎(chǔ)上制作金屬材料和化學(xué)物質(zhì)塑料薄膜的方式。

它用于鋼的制造，在與其他金屬如鐵，釩，錳和銅混合后，可以以多種合金的形式使用。它地以二氧化鈦（TiO的形式使用，用作塑料，油漆，紙張中的顏料和防曬劑中的皮膚保護(hù)劑。除此之外，鈦還用于制造運(yùn)動(dòng)器材，珠寶，自行車(chē)，汽車(chē)，筆記本電腦和許多其他商品。由于其在海水中的抗腐蝕性，它被用于建造在海岸上的新時(shí)代蒸餾裝置的關(guān)鍵部件。二氧化鈦廣泛用于藝術(shù)家和墻面涂料中使用的涂料中。鈦漆反射紅外輻射，因?yàn)樗粫?huì)落入其吸收帶。該屬性被用于為建筑物創(chuàng)建耐熱屏蔽。