一般生產(chǎn)區(qū)清潔要求是什么

一般生產(chǎn)區(qū)清潔要求是什么？ 1）玻璃、墻面、門窗、頂棚應(yīng)清潔，無塵埃，地上應(yīng)平整，無積水、雜物。建筑結(jié)構(gòu)設(shè)備設(shè)備潔凈無缺，設(shè)備、管線排列規(guī)整并包扎光亮，無跑、冒、滴、漏現(xiàn)象，有定時(shí)清潔、修理的記載。 2）原輔料、中心產(chǎn)品、制品分類堆放，有防塵辦法，有明顯的狀況符號(hào)。 3）樓道、走廊、電梯間不能寄存物品，堅(jiān)持曉暢、清潔。 4）生產(chǎn)用東西、容器、設(shè)備按規(guī)則放置，按規(guī)程清潔。 5）生產(chǎn)場(chǎng)所無非生產(chǎn)用品，不在生產(chǎn)場(chǎng)所內(nèi)吸煙、吃東西、睡覺、會(huì)客，不暴曬工裝。

潔凈級(jí)別6級(jí)和7級(jí)是比較常見的,我們選用了這兩個(gè)級(jí)別

通過對(duì)歷年工程實(shí)例的統(tǒng)計(jì)，在電了廠房的設(shè)計(jì)中，潔凈級(jí)別6級(jí)和7級(jí)是比較常見的，因此我們選用了這兩個(gè)級(jí)別作為本次實(shí)驗(yàn)的模擬環(huán)境，并區(qū)分采用過濾器和采用FFU方案，在選用外資、合資與國內(nèi)品牌產(chǎn)品的情況，進(jìn)行模擬。為了區(qū)別紛繁復(fù)雜的實(shí)際情況，我們對(duì)模擬對(duì)象進(jìn)行了適當(dāng)簡(jiǎn)化，實(shí)驗(yàn)的基本情況如下： (1)本次模擬對(duì)象為約3300平方米的普通電子潔凈室。潔凈室具體情況見圖1和圖2。 （2） 終端設(shè)備采用兩種方案進(jìn)行設(shè)計(jì)：方案1采用過濾器；方案2采用 FFUO （3） 計(jì)算范圍：本次計(jì)算的工程量?jī)H含潔凈室冷凍供應(yīng)系統(tǒng)及空調(diào)凈化系統(tǒng)的設(shè)備及安裝材料（風(fēng)管、閥門、風(fēng)口）等，不包括潔凈室配套的土建裝飾、照明、控制等費(fèi)用。

手術(shù)室空調(diào)機(jī)組的要求及要求

機(jī)組停機(jī)時(shí),新風(fēng)密閉閥同時(shí)關(guān)閉,風(fēng)機(jī)如需停機(jī),時(shí)間應(yīng)可由用戶自行設(shè)定。 機(jī)組應(yīng)配置紫外線燈滅菌。 機(jī)組應(yīng)配置手動(dòng)強(qiáng)制開機(jī)功能,確保機(jī)組在控制系統(tǒng)故障時(shí)仍可啟動(dòng)。 機(jī)組應(yīng)采用可匹配變頻器控制風(fēng)機(jī)運(yùn)行,以滿足手術(shù)室空調(diào)系統(tǒng)的要求。 機(jī)組應(yīng)采用可實(shí)現(xiàn)多種工況運(yùn)行模式,控制室內(nèi)溫濕度,可通過通信接實(shí)施中央監(jiān)控,或與BMS樓宇自動(dòng)化系統(tǒng)聯(lián)網(wǎng)。 4.人和貨物進(jìn)入車間必須經(jīng)過，風(fēng)淋室，貨淋室，傳遞窗主要傳遞小物品。 5.在凈化車間內(nèi)局部需要達(dá)到10-1000級(jí)地方安裝垂直層流工作臺(tái)，層流罩（FFU），潔凈棚（可移式凈化工作棚），自凈器。 6.測(cè)試潔凈室潔凈度用，激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢(shì)。 具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對(duì)濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對(duì)于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級(jí)別高的房間。 壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。