真空鍍膜加工是利用物理沉積作用將在上面涂附一層金屬膜，具有比原有表面更耐磨、耐腐蝕等優(yōu)于材料本身的性能，經(jīng)過(guò)鍍膜加工膜層使產(chǎn)品達(dá)到延長(zhǎng)使用壽命，提高質(zhì)量的效果。

PVD鍍膜加工生產(chǎn)故障是每個(gè)PVD鍍膜企業(yè)都會(huì)遇到的問(wèn)題，排除故障是PVD鍍膜技術(shù)人員的重要職責(zé)。PVD鍍膜實(shí)踐出真知，PVD鍍膜生產(chǎn)的實(shí)踐性很強(qiáng)。

真空電鍍?cè)O(shè)備為更好的進(jìn)行測(cè)試、測(cè)定室內(nèi)溫度，真空電鍍?cè)O(shè)備使用測(cè)溫儀器和控溫儀器，避免溫度過(guò)高或不達(dá)標(biāo)真空電鍍?cè)O(shè)備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜區(qū)別

1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來(lái)的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設(shè)備上測(cè)試不出來(lái)了;

2、光學(xué)鍍膜的膜厚測(cè)試可以在鍍膜機(jī)的中間頂上裝置膜厚測(cè)試儀即可。

早的是光控測(cè)試，現(xiàn)在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動(dòng)的頻率來(lái)測(cè)試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

真空鍍膜層是由晶體或晶粒組成的，晶體的大小、形狀及擺放方法決議著鍍層的布局特性。在各種不一樣的電鍍液中，金屬鍍層的布局特性也是不一樣的，主要是堆積進(jìn)程不一樣所造成的。開(kāi)端電鍍時(shí)，基體資料外表首要生成一些纖細(xì)的小點(diǎn)，即結(jié)晶核，跟著時(shí)刻添加，單個(gè)結(jié)晶數(shù)量添加，并相互銜接成片，構(gòu)成鍍層。

     東莞真空電鍍廠的工藝和環(huán)境要求：一般真空鍍膜的做法是在材料上先噴一層底漆，再做電鍍．因?yàn)椴牧鲜撬芰霞谧⑺軙r(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在組織時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分．另外，因?yàn)樗芰媳砻娌环笃秸?，直接電鍍的工件表面不光滑，光芒低，金屬感差，并且?huì)呈現(xiàn)氣泡，水泡等不良環(huán)境．噴上一層底漆今后，會(huì)構(gòu)成一個(gè)光滑平展的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以閃現(xiàn)．

真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧ぃ室卜Q(chēng)真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。

PVD鍍膜過(guò)程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類(lèi)，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱(chēng)。所以對(duì)于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。