一般潔凈室高度控制在2.60米，對個別較高的設備可在局部加高，而不宜提高潔凈區(qū)的高度。潔凈室的構成是由下列各項系統(tǒng)所組成(在所組成的系統(tǒng)分子中是缺一不可的)，否則將無法構成一完整且品質良好的潔凈室。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。

凈化工程的步的關鍵是設計，工程設計水平的好與壞將直接關系到整個工程之后的施工，還會影響凈化工程今后的穩(wěn)定性、可靠性、經濟性。而隨著凈化技術的發(fā)展，建設凈化車間的技術含量也越來越高，非人士不能也。除了在生產領域，凈化工程技術還會逐漸應用于家庭、公共場合，為人們提供更潔凈的生活空間壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

100級：是常用的凈化工程，除了對空氣中的塵埃數有要求，對空氣中細菌的濃度也有明確要求。一般用于醫(yī)行業(yè)進行無菌制造，例如制造臨床用于植入人體內的物品，藥生產。醫(yī)學科學實驗也在此環(huán)境中，包括實驗動物飼養(yǎng)環(huán)境。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。潔凈室的構成是由下列各項系統(tǒng)所組成(在所組成的系統(tǒng)分子中是缺一不可的)，否則將無法構成一完整且品質良好的潔凈室。

具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。凈化工程技術的興起不過是上個世紀的事情，但今天凈化技術發(fā)揮著重要作用則是有目共睹的。隨著產品向著好的方向發(fā)展，對凈化車間的依賴度也越來越高。1級：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當金屬塵埃落于集成電路上時，就可能造成短路。當空氣中的酸性離子落在電路上時，可能將電路腐蝕，因此凈化空調系統(tǒng)對微電子工業(yè)而言至關重要。此外，液晶、光纖的生產也需要1級潔凈度的要求。