對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。其原理是:將工件置于硼砂(或其他)熔鹽的混合物中,通過高溫?zé)釘U(kuò)散作用,在工件表面形成一層數(shù)微米至數(shù)十微米的金屬碳化物覆層。②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。

指環(huán)6的外圈8上設(shè)置有內(nèi)軌9，裝飾件7的底邊上設(shè)置有凸邊10，所述凸邊10卡在內(nèi)軌9上，裝飾件7通過凸邊10與內(nèi)軌9的配合，使裝飾件7在指環(huán)6上沿著內(nèi)軌9活動(dòng)；所述指環(huán)扣上設(shè)置有至少一個(gè)裝飾件7，且裝飾件7為鑲有鉆石或珠片的裝飾件7。使用者可以根據(jù)喜好或使用場合選擇鑲有鉆石或珠片的裝飾件7，而且在使用者使用的時(shí)候，有至少一個(gè)裝飾件7沿著內(nèi)軌9在指環(huán)6內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，不僅能為指環(huán)扣增加美感，還能指環(huán)扣的趣味性。二：節(jié)省金屬資料：因?yàn)檎婵胀繉拥母街?、致密度、硬度、耐腐蝕功能等適當(dāng)優(yōu)良，堆積的真空電鍍鍍層能夠遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于慣例濕法電鍍鍍層，到達(dá)節(jié)省的意圖。

本實(shí)用新型涉及數(shù)碼產(chǎn)品指環(huán)支架技術(shù)領(lǐng)域，特指一種磁能指環(huán)支架，包括磁鐵底座與鐵制指環(huán)，磁鐵底座與鐵制指環(huán)均采用圓形結(jié)構(gòu)設(shè)置，磁鐵底座與鐵制指環(huán)之間通過磁能吸附方式對(duì)應(yīng)設(shè)置。以上就是鍍膜加工廠給大家?guī)淼拇_定電鍍光亮劑的優(yōu)劣的方法，希望能給大家有更多的了解。本實(shí)用新型采用這樣的結(jié)構(gòu)設(shè)置，磁鐵底座與鐵制指環(huán)之間通過磁能吸附方式可實(shí)現(xiàn)數(shù)碼產(chǎn)品360度無死角使用，同時(shí)采用吸附原理，便于磁鐵底座與鐵制指環(huán)的分離和隱藏，不使用的情況下也不影響美觀。

更具體而言，所述外觀鋁件3外圓上均勻設(shè)有若干凹槽。通過凹槽便于取下套在外觀鋁件3上的鐵制指環(huán)4,且其整體外形看上去更加美觀。

[0022]以上為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施方式，本實(shí)用新型所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還能對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行變更和修改。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。因此，本實(shí)用新型并不局限于上述的具體實(shí)施方式，凡是本領(lǐng)域技術(shù)人員在本實(shí)用新型的基礎(chǔ)上所作的任何顯而易見的改進(jìn)、替換或變型均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。