干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動性與粘結性以確保達到無間隙貼膜。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質量的好與壞是整個圖形轉移成功與否的重要標志。

首先是預處理，蝕刻材料要處理干凈，絲印油墨時要保證油墨厚度適中，一般在0.12-0.14mm，當然看每個工廠的實際情況與工藝。接下來是烘烤油墨，要控制溫度和烘烤速度，一般來說烘烤溫度控制在90℃±5℃。

曝光顯影：激光打標在手機殼上的運用!消費者在選擇購買手機商品的時候都會額外的購買手機殼。購買手機殼的目的是為了能夠更好的保護手機、防止手機摔壞、或者被刮花、同時也為了起到防水、防震的效果。

曝光后要檢測曝光后的圖形質量，若有遺漏需要進行人工補油補點。補油后需要進行第二次烘烤。

之后就進行顯影，確定圖形的清洗度，顯影過程中主要是控制藥的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。

曝光顯影工藝就是指利用物質這一特點，由高精度紫外平行光源通過掩膜版對涂有特定吸收波長的油墨進行紫外光照射，然后通過化學去除多余涂層，從而達到圖形轉印的過程稱之為曝光顯影工藝。

曝光顯影技術優(yōu)勢：

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉印技術單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉印技術，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產能優(yōu)勢明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率。

當需要較深的蝕刻要求時材料的因素并不重要（材質質量大差例外），同時為了生產效率的需要，要通過對蝕刻溶液濃度、配方組成的調整及蝕刻物理參數的調整來提高蝕刻速度，即便是這樣也不需要"越快越好的蝕刻速度。因為太快的速度會使溶液成分變化太快，會反過來影響到物理參數的控制難度，同時也會使被蝕刻的金屬表面溶解速度不能一致，使蝕刻后的表面平滑度降低。