微弧氧化除了所需電功率較大之外，微弧氧化工藝實際上并不算復雜，所使用的gui酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等電解質是環(huán)保無毒的，對鋁材的要求也不高，不管是 6000系的航空級鋁材，還是難以陽極氧化的含銅、含gui鋁材都可以進行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷結晶層。一平方厘米電弧可以分解出來10億個以上的小弧斑，再把弧的開斷時間控制在百萬分之一秒內(nèi)，這個小弧斑可以在物質表面形成融溶噴射現(xiàn)象。微弧氧化在處理過程中會自動對制品表面進行拋光處理，一些粗糙的制品表面可以修復得平整光滑，在一定程度上也節(jié)省了后期成本。

       微弧氧化的原理

       微弧氧化通過讓氧與鋁結合，使鋁合金（輕質但硬度、耐蝕性不足）表面原位生成一層氧化鋁陶瓷，使其表面變得質硬且耐蝕，進而達到了延長材料使用壽命的目的。將微弧氧化陶瓷化轉化技術與為滿足不同服役條件而選定的后續(xù)涂裝技術相結合而形成復合涂層的一種短流程無污染排放的環(huán)保型表面處理技術，優(yōu)異的表面保護效果滿足了鎂合金制品于各種服役條件的表面性能要求。同時，微弧電子學又是一種新型‘塑形’技術，通過負電性等離子體對材料進行納米尺度選取剝離，實現(xiàn)以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應用前景。微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

     微弧氧化的起源

       微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術。2002年微弧氧化設備獲得國家重點新產(chǎn)品證書，2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發(fā)明專利。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積,前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點并開始應用,九十年代初國內(nèi)開始起步。微弧氧化在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。（壓鑄件氧化，鋁鎂合金硬質氧化，硬質氧化）微弧氧化技術原理、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。微弧氧化技術的突特點微弧氧化陶瓷技術是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長陶瓷層的高新技術。陽極氧化發(fā)生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結合，因此與基體結合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結合力，膜層內(nèi)部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源