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常州研磨盤圖片常用解決方案 新光速光電科技

發(fā)布時(shí)間:2021-09-22 07:51  

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正確處理研磨的運(yùn)動(dòng)軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中﹐一般要求﹕①工件相對(duì)研具的運(yùn)動(dòng)﹐要盡量保證工件上各點(diǎn)的研磨行程長(zhǎng)度相近﹔②工件運(yùn)動(dòng)軌跡均勻地遍及整個(gè)研具表面﹐以利于研具均勻磨損﹔③運(yùn)動(dòng)軌跡的曲率變化要小﹐以保證工件運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)﹔④工件上任一點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡盡量避免過(guò)早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱﹐研磨一般在低壓低速條件下進(jìn)行。



要想獲得高質(zhì)量的拋光效果,的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決于前期加工后的表面狀況,如機(jī)械加工、電火花加工,磨加工等等。機(jī)械拋光的一般過(guò)程如下:

(1 )粗拋

經(jīng)銑、電火花、磨等工藝后的表面可以選擇轉(zhuǎn)速在 35 000 — 40 000 rpm 的旋轉(zhuǎn)表面拋光機(jī)或超聲波研磨機(jī)進(jìn)行拋光。常用的方法有利用直徑Φ 3mm 、 WA # 400 的輪子去除白色電火花層。然后是手工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤(rùn)滑劑或冷卻劑。



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通過(guò)此項(xiàng)技術(shù),讓化工企業(yè)科研實(shí)力的突飛猛進(jìn)成為可能!

1、可以縮短研發(fā)周期,降低技術(shù)成本;

2、通過(guò)分析業(yè)內(nèi)優(yōu)異樣品,用于指導(dǎo)配方改進(jìn),工藝優(yōu)化,對(duì)比自身摸索,提高研發(fā)效率。

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配方分析應(yīng)用領(lǐng)域:

淬火液,研磨液,防銹油,拉伸油,乳化油,潤(rùn)滑油,極壓添加劑,金屬加工液,切削液,磨削液,線切割液,電火花液