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發(fā)布時間:2020-12-17 04:16  
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鏡片表面鍍有多層減反射膜后,鏡片特別容易產(chǎn)生污漬,而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下,我們可以發(fā)現(xiàn)減反射膜層呈孔狀結(jié)構(gòu),所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜,而且這層膜必須非常薄,以使其不會改變減反射膜的光學(xué)性能。真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鋼化玻璃鏡片的表面,同時在蒸發(fā)過程中,對鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴(yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染珳?zhǔn)控制,精度達到。
磁控濺射真空鍍膜機運作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。
真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來進行控制,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就能控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。
真空電鍍設(shè)備對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力,真空電鍍設(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小,不起反應(yīng),流平性能好。
真空電鍍設(shè)備具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。真空電鍍設(shè)備成膜性能好,真空電鍍設(shè)備涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。真空電鍍設(shè)備與面涂層有良好的相溶性。真空電鍍設(shè)備由于鍍膜層極薄有孔隙,要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。