車間對制藥用水制備裝置的要求

GMPGMP車間對制藥用水制備裝置的要求

　　1.結(jié)構(gòu)設(shè)計應(yīng)簡單、可靠、拆裝簡便。

　　2.為便于拆裝、更換、清洗零件，執(zhí)行機(jī)構(gòu)的設(shè)計盡量采用的標(biāo)準(zhǔn)化、通用化、系統(tǒng)化零部件。

　　3.設(shè)備內(nèi)外壁表面，要求光滑平整、無死角，容易清洗、滅菌。零件表面應(yīng)做鍍鉻等表面處理，以耐腐蝕，防止生銹。設(shè)備外面避免用油漆，以防剝落。

　　4.制備純化水設(shè)備應(yīng)采用低碳不銹鋼或其他經(jīng)驗證不污染水質(zhì)的材料。制備純化水的設(shè)備應(yīng)定期清洗，并對清洗效果驗證。

　　5.水接觸的材料必須是低碳不銹鋼（例如316L不銹鋼）或其他經(jīng)驗證不對水質(zhì)產(chǎn)生污染的材料。制備水的設(shè)備應(yīng)定期清洗，并對清洗效果驗證。

　　6.純化水儲存周期不宜大于24小時，其儲罐宜采用不銹鋼材料或經(jīng)驗證無毒，耐腐蝕，不滲出污染離子的其他材料制作。保護(hù)其通氣口應(yīng)安裝不脫落纖維的疏水性濾器。儲罐內(nèi)壁應(yīng)光滑，接管和焊縫不應(yīng)有死角和。應(yīng)采用不會形成滯水污染的顯示液面、溫度壓力等參數(shù)的傳感器。對儲罐要定期清洗、消毒滅菌，并對清洗、滅菌效果驗證。

純化水設(shè)備廠商可以在工廠就這些問題進(jìn)行整改

對于純化水設(shè)備廠商而言，模塊化設(shè)計也是良好純化水系統(tǒng)設(shè)計的特性之一。模塊化設(shè)計的設(shè)備可以在純化水設(shè)備廠商的工廠進(jìn)行工廠驗收測試。若在測試過程中發(fā)現(xiàn)問題，純化水設(shè)備廠商可以在工廠就這些問題進(jìn)行整改，經(jīng)整改完畢后再將用水設(shè)備發(fā)往現(xiàn)場，這樣就可以有效縮短現(xiàn)場調(diào)試時間，給予客戶良好的服務(wù)體驗。對于可安裝和調(diào)試的部件可優(yōu)先組裝形成模塊單元，方便運輸及配送，提高交付的效率。

盡管模塊化設(shè)計并非強制性要求，但基于對系統(tǒng)風(fēng)險、運行成本、資源利用、外觀審美等多方面的因素考慮，目前很多企業(yè)在純化水系統(tǒng)設(shè)計時要求遵循模塊化設(shè)計理念，助力推動用水設(shè)備高質(zhì)量高水平發(fā)展。

純化水設(shè)備系統(tǒng)運行注意事項

1）、反滲透膜的水解易造成反滲透裝置的性能惡化，為此，必須嚴(yán)格控制水的PH值，給水PH值在3-11范圍內(nèi)。

2）、當(dāng)注入的次量不足而使給水中的游離氯不能測出時，在反滲透裝置的膜組件上會有黏泥發(fā)生，反滲透裝置的壓差將增大。但對于聚酰胺膜來講，必須嚴(yán)格控制進(jìn)入膜組件的游離氯量，超過規(guī)定值將導(dǎo)致膜的氧化分解。

3）、若把FI值超標(biāo)的水供給反滲透裝置作為給水，在膜組件的表面將附著污垢，這樣必須通過清洗來去除污垢。

4）、過量的給水流量將使膜組件提前劣化，因此給水流量不能超過設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)值。此外濃水的流量應(yīng)盡量避免小于設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)值，在濃水流量過小的條件下運轉(zhuǎn)，會使反滲透裝??置的壓力容器內(nèi)發(fā)生不均勻的流動及由于過分濃縮而在膜組件上析出污垢。

5）、反滲透裝置的高壓泵即使有極短的時間中斷運轉(zhuǎn)都可能使裝置發(fā)生故障。

6）、反滲透入口壓力要保持有適當(dāng)?shù)脑６?，否則由于沒有適當(dāng)?shù)膲簩?，除鹽率會降低。

7）、反滲透裝置停止時應(yīng)用低壓給水置換反滲透裝置內(nèi)的水。這是為了防止在停運時二氧化硅的析出（在冬季時水溫下降之故）。

8）、需經(jīng)常注意保安過濾器的壓差。出現(xiàn)壓差急劇上升的原因主要是保安過濾器渾濁度的泄漏。相反，出現(xiàn)壓差急劇下降的原因是精密過濾器元件的破損，以及保安過濾器元件緊固螺絲松動等。

9）、當(dāng)反滲透裝置入口和出口的壓差超過標(biāo)準(zhǔn)時，說明膜面已受污染或者是給水流量在設(shè)計值以上。如經(jīng)流量調(diào)整尚不能解決壓差問題，則應(yīng)對膜面進(jìn)行清洗。

10）、在夏天給水溫度高，產(chǎn)水流量就過多，有時不得不降低操作壓力，這樣做將導(dǎo)致產(chǎn)水水質(zhì)下降。為了防止這點，可減少膜組件的根數(shù)，而操作壓力仍保持較高的水平。