金屬蝕刻網(wǎng)片平滑度差的原因有哪些？要如何解決呢？下面興之揚不銹鋼網(wǎng)片蝕刻加工小編和大家一起來探討哦！

雜質(zhì)含量太高；三氯化鐵質(zhì)量差；活化不良；添加劑含量不足；氯離子濃度太高；磷酸離子濃度低；材料晶粒粗大；解決方法：加強活化過程；定期補加添加劑；添加磷酸；更換溶液；更換材料；

興之揚是一家專注于精密蝕刻加工的深圳廠家，多年來成長為大型精密蝕刻加工廠。擁有6條自動化蝕刻生產(chǎn)線，日產(chǎn)量可達3000㎡；膨脹系數(shù)是膨脹－溫度曲線的斜率，瞬時膨脹系數(shù)是特定溫度下的斜率，兩個溫度之間的平均斜率是平均熱膨脹系數(shù)。20余年經(jīng)驗工程師，工藝精湛；進口加工與檢測設(shè)備，精度高質(zhì)量穩(wěn)定；獲得ISO9001與ISO14001雙證書，同國際化標(biāo)準(zhǔn)接軌，是一家有實力的精密金屬蝕刻加工廠家。

304不銹鋼板，304不銹鋼機械性能：

耐空氣、蒸汽、水等弱腐蝕介質(zhì)和酸、堿、鹽等化學(xué)浸蝕性介質(zhì)腐蝕的鋼。304不銹鋼又稱不銹耐酸鋼。實際應(yīng)用中，常將耐弱腐蝕介質(zhì)腐蝕的鋼稱為不銹鋼，而將耐化學(xué)介質(zhì)腐蝕的鋼稱為耐酸鋼。由于兩者在化學(xué)成分上的差異，前者不一定耐化學(xué)介質(zhì)腐蝕，而后者則一般均具有不銹性。不銹鋼的耐蝕性取決于鋼中所含的合金元素。鉻是使不銹鋼獲得耐蝕性的基本元素，當(dāng)鋼中含鉻量達到12％左右時，鉻與腐蝕介質(zhì)中的氧作用，在鋼表面形成一層很薄的氧化膜（自鈍化膜），可阻止鋼的基體進一步腐蝕。除鉻外，常用的合金元素還有鎳、鉬、鈦、鈮、銅、氮等，以滿足各種用途對不銹鋼組織和性能的要求。不銹鋼通常按基體組織分為：①鐵素體不銹鋼。含鉻12％～30％。其耐蝕性、韌性和可焊性隨含鉻量的增加而提高，耐氯化物應(yīng)力腐蝕性能優(yōu)于其他種類不銹鋼。下面興之揚不銹鋼蝕刻專業(yè)工程師來告訴大家：酸洗溶液氟化物含量不夠。②奧氏體不銹鋼。含鉻大于18％，還含有8％左右的鎳及少量鉬、鈦、氮等元素。綜合性能好，可耐多種介質(zhì)腐蝕。③奧氏體-鐵素體雙相不銹鋼。兼有奧氏體和鐵素體不銹鋼的優(yōu)點，并具有超塑性。④馬氏體不銹鋼。強度高，但塑性和可焊性較差。

興之揚蝕刻電視304不銹鋼網(wǎng)小編來給大家講解干法蝕刻電漿形成之原理：

電漿的產(chǎn)生可藉由直流(DC)偏壓或交流射頻(RF)偏壓下的電場形成，如圖5-3所示，而在電漿中的電子來源通常有二：一為分子或原子解離后所產(chǎn)生的電子，另一則為離子撞擊電極所產(chǎn)生的二次電子(SecondaryElectron)，在直流(DC)電場下產(chǎn)生的電漿其電子源主要以二次電子為主，而交流射頻(RF)電場下產(chǎn)生的電漿其電子源則以分子或原子解離后所產(chǎn)生的電子為主。但高碳型420和440鋼在進行點試驗時則稍受腐蝕，有色金屬遇到濃時立即會被腐蝕。

在電漿干法蝕刻中以直流方式產(chǎn)生輝光放電的缺點包含了：1)需要較高的功率消耗，也就是說產(chǎn)生的離子密度低；2)須要以離子撞擊電極以產(chǎn)生二次電子，如此將會造成電極材料的損耗；3)所需之電極材料必須為導(dǎo)體。如此一來將不適用于晶圓制程中。

在射頻放電(RFDischarge)狀況下，由于高頻操作，使得大部份的電子在半個周期內(nèi)沒有足夠的時間移動至正電極，因此這些電子將會在電極間作振蕩，并與氣體分子產(chǎn)生碰撞。而射頻放電所需的振蕩頻率下限將視電極間的間距、壓力、射頻電場振幅的大小及氣體分子的解離位能等因素而定，而通常振蕩頻率下限為50kHz。所以回火的冷卻速度，必需隨著所請求的蝕刻不銹鋼機械性能而改動。一般的射頻系統(tǒng)所采用的操作頻率大都為13.56MHz。

興之揚蝕刻不銹鋼網(wǎng)片小編給大家介紹什么是氮化硅的濕式蝕刻:

氮化硅可利用加熱至180°C的磷酸溶液(85%)來進行蝕刻(5)。其蝕刻速率與氮化硅的成長方式有關(guān)，以電漿輔助化學(xué)氣相沉積方式形成之氮化硅，由于組成結(jié)構(gòu)(SixNyHz相較于Si3N4)較以高溫低壓化學(xué)氣相沉積方式形成之氮化硅為松散，因此蝕刻速率較快許多。所以當(dāng)pH值過高時，必須增加排氣量，升高銅含量或降低補充液中的總堿度，高pH值有助于較多的銅的溶解。

但在高溫?zé)崃姿崛芤褐泄庾枰讋兟?，因此在作氮化硅圖案蝕刻時，通常利用二氧化硅作為屏蔽。一般來說，氮化硅的濕式蝕刻大多應(yīng)用于整面氮化硅的剝除。對于有圖案的氮化硅蝕刻，還是采用干式蝕刻為宜。