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發(fā)布時(shí)間:2021-07-03 08:31  
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硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到-種平衡。
如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用,則表面產(chǎn)生高損傷層。
制備高濃度的氧化拋光液想要優(yōu)異的拋光效果,必須要氧化粉在拋光液體系中,具備非常好的懸浮性.分散性,否則如果分散性不好,容易導(dǎo)致有大
顆粒,或者懸浮性不好,都會(huì)影響拋光的效果,嚴(yán)重的話會(huì)損壞機(jī)器,因此做好氧化拋光液粉體的懸浮性和分散性需要加入特定的分散劑或者懸浮劑來
解決這個(gè)難題。
研磨機(jī)常用的研磨盤有銅盤,錫盤,不銹鋼盤,鐵盤,樹脂盤。每種材料的研磨盤應(yīng)用的工件類型也有所差別。銅盤主要功能是精磨,多用于藍(lán)寶石等工件的精磨;錫盤也是側(cè)重精磨,不過是用于精磨陶瓷產(chǎn)品;不銹鋼盤一般用于金屬產(chǎn)品的精磨;鐵盤的功能就側(cè)重于粗磨,主要是對(duì)鐵、合金鋼產(chǎn)品進(jìn)行粗磨;樹脂盤一般用于塑膠、模具等工件的粗磨。