化學(xué)拋光原理

化學(xué)拋光的原理是金屬表面通過有規(guī)則溶解達(dá)到光亮平滑。在化學(xué)拋光材料，拋光蠟 (4張) 光過程中，鋼鐵零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強(qiáng)于后者。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。

化學(xué)拋光設(shè)備簡單，能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。

化學(xué)拋光液的成分隨拋光材料的不同而不同。一般為混合酸液?；瘜W(xué)拋光溶液由氧化劑和粘滯劑組成。氧化劑起拋光作用，它們是酸類和。常用的酸類有：正磷酸、鉻酸、硫酸、醋酸、、等等。粘滯劑用于控制溶液中的擴(kuò)散和對流速度，使化學(xué)拋光過程均勻進(jìn)行。

化學(xué)拋光廣泛應(yīng)用于不銹鋼、銅及鋁合金等的拋光，還用于對一些零件做裝飾加工?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍前的處理工序，也可在拋光后輔以必要的防護(hù)措施而直接使用。

首一階段是化學(xué)拋光時金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當(dāng)于光波長的范圍?？蓪㈦A段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化?；瘜W(xué)拋光的優(yōu)點是化學(xué)拋光設(shè)備簡單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細(xì)薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。有些非導(dǎo)體材料也可以用化學(xué)拋光，非導(dǎo)體嵌鑲的試樣也可以直接拋光。化學(xué)拋光也可以處理形狀比較復(fù)雜的零件。