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發(fā)布時間:2021-06-27 05:53  
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蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除,在蝕刻時接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
1、曝光過度會導(dǎo)致顯影不凈。
2、曝光能量不足會導(dǎo)致顯影過度。
3、實際曝版光能量需權(quán)根據(jù)干膜種類、厚度或油墨種類/厚度/烘烤時間確定,正常線路曝光使用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能量150-500mJ/cm2,具體以曝光尺為準(zhǔn);線路曝光尺5 --8格,油墨的曝光尺做到9 --13格。

通??山逵筛膭尤芤簼舛燃皽囟扔枰圆倏亍H芤簼舛瓤筛膭臃错懳镔|(zhì)抵達(dá)及脫離待精密五金蝕刻物外表的速率,一般來說,當(dāng)溶液濃度添加時,精密五金蝕刻速率將會進(jìn)步。而進(jìn)步溶液溫度可加快化學(xué)反響速率,進(jìn)而加快精密五金蝕刻速率。
除了溶液的選用外,挑選適用的屏蔽物質(zhì)亦是十分重要的,它必須與待精密五金蝕刻資料外表有很好的附著性、并能接受精密五金蝕刻溶液的腐蝕且安穩(wěn)而不蛻變。
曝光膜通俗的講就是種感光薄膜,它遇光會發(fā)生光聚合反應(yīng)般采用zhi紫外光進(jìn)行曝光),曝光后會生成種藍(lán)色不溶于NaCo但溶于NaoH的物質(zhì)。曝光膜主要用于PCB生產(chǎn)中的內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移(INDF)和外層圖形轉(zhuǎn)移中(DF)工序,內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移主要生產(chǎn)流程為:上工序—前處理—貼膜—曝光—顯影—蝕刻—褪膜—下工序;外層圖形轉(zhuǎn)移主要生產(chǎn)流程為:上工序—前處理—貼膜—曝光—顯影—下工序。貼膜操作貼的就是曝光膜,它在覆銅板上貼上曝光膜,送入到紫外曝光機(jī)中進(jìn)行曝光,經(jīng)過顯影蝕刻等操作就能得到所需要的線路圖形。