公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

濺鍍法（Sputtering）：（1）上平行板：裝載濺鍍金屬的靶材；下平行板：作為濺鍍對象的玻璃基板。（2）將氣（Ar 2 ）通入反應艙中形成等離子體；離子（Ar ）在電場中被加速后沖撞靶材；受沖擊的靶材原子會沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。

業(yè)內(nèi)又稱光掩模版、掩膜版，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK），材質(zhì)：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，該產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設計好的電路圖形通過電子激光設備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會被顯影出來，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應用于對集成電路進行投影定位，通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序為：曝光，顯影，去感光膠，后應用于光蝕刻。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應用于芯片制造。

掩膜（MASK）就是指單片機設計掩膜就是指程序流程統(tǒng)計數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機設計生產(chǎn)制造的全過程中把程序流程做進來。在用玻璃標定板標定時候都有遇到過標定板反光問題，有時候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下來，玻璃本身就是反光材料，燈光一亮反光嚴重，甚至導致無法標定板。優(yōu)勢是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學圖像處理中，掩?？梢允潜∧?、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時也使用多值圖像。