1）鍍鎳的應(yīng)用面很廣，可作為防護(hù)裝飾性鍍層，在鋼鐵、鋅壓鑄件、鋁合金及銅合金表面上，保護(hù)基體材料不受腐蝕或起光亮裝飾作用;也常作為其他鍍層的中間鍍層，在其上再鍍一薄層鉻，或鍍一層仿金層，其抗蝕性更好，外觀更美。在功能性應(yīng)用方面，在特殊行業(yè)的零件上鍍鎳約1~3mm厚，可達(dá)到修復(fù)目的。特別是在連續(xù)鑄造結(jié)晶器、電子元件表面的模具、合金的壓鑄模具、形狀復(fù)雜的宇航發(fā)動(dòng)機(jī)部件和微型電子元件的制造等方應(yīng)用越來(lái)越廣泛。

2）鍍鎳層還廣泛的應(yīng)用在功能性方面，如修復(fù)被磨損、被腐蝕的零件，采用刷鍍技術(shù)進(jìn)行局部電鍍。采用電鑄工藝，用來(lái)制造印刷行業(yè)的電鑄版、唱片模以及其它模具。厚的鍍鎳層具有良好的耐磨性，可作為耐磨鍍層。尤其是近幾年來(lái)發(fā)展了復(fù)合電鍍，可沉積出夾有耐磨微粒的復(fù)合鎳鍍層，其硬度和耐磨性比鍍鎳層更高。若以石墨或氟化石墨作為分散微粒，則獲得的鎳-石墨或鎳-氟化石墨復(fù)合鍍層就具有很好的自潤(rùn)滑性，可用作為潤(rùn)滑鍍層。黑鎳鍍層作為光學(xué)儀器的鍍覆或裝飾鍍覆層亦都有著廣泛的應(yīng)用。

硬鉻電鍍提髙效率與質(zhì)量的方法：

1， 整流器要有足夠的容量，滿(mǎn)足大電流密度的要求，蕞低電流密度不小于20A/dm2（因?yàn)殡娏髅芏鹊蜁?huì)影響電流效率），電壓12~15V，直流輸出，紋波系數(shù)≤3%。

2， 應(yīng)有足夠的加溫和冷卻設(shè)備，使操作溫度在工藝規(guī)定范圍內(nèi)并且均勻。應(yīng)有良好的循環(huán)攪拌設(shè)備，使鍍液各化學(xué)成分與溫度分布均衡。

3. 陽(yáng)極材料：應(yīng)采用含錫7%~15%的鉛錫合金，鉛應(yīng)用電解鉛，錫含量建議取上限。

4. 雜質(zhì)：鍍液中金屬離子的含量應(yīng)控制在8g/L以下，CIˉ不宜超過(guò)100ppm。

5. 建議使用較高的電流密度（40~60A/dm2）和相適應(yīng)的溫度。隨著槽液溫度升高和電流密度降低，會(huì)引起電流效率下降。

鍍硬鉻的槽液配制

㈠新配槽液一般按鉻酐200G/L，ST—927EK 24G/L，再加入一定量的試劑硫酸，使鉻酐與硫酸的比在100?1.0~1.5范圍內(nèi)。

㈡配制步驟：

①加入2/3體積的去離子水（不能含有氯離子或硫酸根離子）于潔凈的鍍槽中，加熱至45oC~50oC左右。

②在連續(xù)攪拌下逐步加入所需的鉻酐。

③在連續(xù)攪拌下分別加入所需量的ST927—EK和硫酸。

④將溶液攪勻后，加入去離子水至蕞終體積。驗(yàn)證槽液的濃度，必要時(shí)予以調(diào)整。

⑤加熱溫度至55~65oC。加入適量經(jīng)本公司認(rèn)可的抑霧劑。

⑥電解3~4小時(shí)后即可試鍍。