雙色真空鍍膜機PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術(shù)的了解不是特別全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實際運用過程有哪些優(yōu)缺點?至成真空小編現(xiàn)在詳細(xì)和大家介紹一下:

真空鍍膜機PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機PVD技術(shù)其優(yōu)點是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

多弧離子真空鍍膜機工藝如何運用到刀具行業(yè)

很多人對多弧離子真空鍍膜機其實并不太了解，更不了解鍍膜設(shè)備的工藝如何運用到刀具行業(yè)，很多客戶都有這樣的疑惑，也經(jīng)常會問我們這方面的問題，特別是對真空設(shè)備的愛好者，今天至成真空小編為大家詳解介紹一下多弧離子真空鍍膜機工藝如何運用到刀具行業(yè)。

為了滿足鍍膜制和各種多層薄膜及復(fù)合化合物薄膜的要求，多功能多弧離子鍍膜已成為目前研究發(fā)展的方向。多弧離子鍍膜設(shè)備采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質(zhì)的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。多弧離子鍍膜采用孿生靶的先進技術(shù)，克服直流濺射固有的打火等不良弊病，使鍍件的耐蝕性能又有所提高和改善。

多弧離子鍍膜的中心安裝柱狀多弧靶，靶材為鈦或鋯。它不但能保持多弧技術(shù)離化率高、沉積速率高的特點，還能有效地降低平面多弧靶沉積過程中很難避免的“液滴”的缺陷，從而可以制備出低孔隙率的金屬薄膜或化合特薄膜；在周邊安裝了孿生平面磁控靶，靶材為鋁或硅；中外，在周邊安裝多個平面多弧蒸發(fā)源，靶材為鉻或鎳，可以鍍制多層金屬膜和多層復(fù)合膜。復(fù)合式離子鍍膜設(shè)備由于具有多種不同形式鍍膜裝置及不同材質(zhì)的蒸發(fā)源及發(fā)射靶，它們既可以獨立地分別工作又可以同時工作，既能制備純金屬膜又能制備金屬化合物膜或復(fù)合材料膜；既能制備單層薄膜又能制備多層復(fù)合膜，用途極其廣泛。

真空PVD鍍膜涂層工藝有那些步驟呢?

今天至成真空小編為大家詳細(xì)介紹一下真空PVD鍍膜涂層工藝操作步驟，它的先后順序是怎樣的，有那些細(xì)節(jié)和原理是必須要了解的。

首先在處理工藝前，需要褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。鍍膜工藝，抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝：首先清洗環(huán)節(jié)，確保真空鍍膜機鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量；然后再抽真空將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。接下來加熱烘烤，爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測試，測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗，去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜，沉積膜層。冷卻，避免工件氧化變色。為什么要進行冷卻，鍍膜工藝完成后，真空室內(nèi)溫度高達500℃，如果不冷卻就放氣，沒有被鍍上膜的高溫工件表面會因為與空氣反應(yīng)氧化變成藍色。