開(kāi)槽粗拋紅皮：提 供各種尺寸、材質(zhì)的拋光墊。所有拋光墊均帶背膠，便于將拋光墊固定在拋光盤(pán)上?？梢話伖舛喾N材質(zhì)的工件，如硅片、、石英晶體、藍(lán)寶石、金屬、玻璃、 半導(dǎo)體材料等。藍(lán)寶石拋光墊是一種絲絨狀拋光布，可用于光學(xué)元件的終道和手修，以及晶體和金屬等材料的終道拋光，也可用于透鏡的防護(hù)墊，背面帶膠?！　』久枋觯寒a(chǎn)品有耐磨耗，使用周期長(zhǎng)，耐高溫等特點(diǎn),可以按客戶要求調(diào)整規(guī)格、可背膠、可開(kāi)槽。



一種商業(yè)模式既可以統(tǒng)攝未來(lái)的市場(chǎng)，也可以擠垮當(dāng)前的市場(chǎng)——在現(xiàn)代經(jīng)濟(jì)社會(huì)里，這并不是一件不可能的事情?！懊赓M(fèi)”就是這樣一種商業(yè)模式，它所代表的正是數(shù)字化網(wǎng)絡(luò)時(shí)代的商業(yè)未來(lái)。海德在2016年也將開(kāi)啟平面研磨機(jī)、平面拋光機(jī)免費(fèi)使用服務(wù)。在之前，已經(jīng)有客戶在免費(fèi)使用海德的研磨設(shè)備了?！?016年，免費(fèi)的平面研磨機(jī)、平面拋光機(jī)有木有?

依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué).半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等, 對(duì)硅單品片化學(xué)機(jī)械拋光( CMP )機(jī)

理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明,化學(xué)機(jī)械拋光液是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng) ,它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程:

(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。

(2 )拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單品重新出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。