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天津銅鍍鎳工藝的用途和特點(diǎn) 航天騰達(dá)價(jià)格公道

發(fā)布時(shí)間:2021-08-17 21:53  

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電鍍?cè)砗驮O(shè)備構(gòu)造的簡(jiǎn)單講解

電鍍?cè)恚航柚饨缰绷麟姷淖饔?,在溶液中進(jìn)行電解反應(yīng),使導(dǎo)電體的表面沉積一金屬或合金層的方法,稱為電鍍。通過對(duì)電鍍?cè)砗驮O(shè)備構(gòu)造的簡(jiǎn)單講解,使大家對(duì)電鍍相關(guān)知識(shí)有初步的了解。對(duì)設(shè)備結(jié)構(gòu)及流程進(jìn)行說明,同時(shí)將各部品的結(jié)構(gòu)、及工作原理進(jìn)行講解,并指出可能影響產(chǎn)品質(zhì)量的重要結(jié)構(gòu)及動(dòng)作部分。為現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)中更好地理解并控制重要品質(zhì)項(xiàng)目提供幫助。


鍍鉻電解液的濃度分為高、中、低三類,其特性與用途

鍍鉻電解液的濃度通常分為高、中、低三類,其特性與用途如下:低濃度電解液:鉻酐含量約在150克/升以下,它允許采用高的電流密度(60~70A/d㎡)電流(16~18%),分散能力比其他鍍鉻電解液高,鉻層硬度高,獲得光亮鍍層的溫度和電流密度范圍狹窄,電解液的帶出損失少。適用于外形簡(jiǎn)單的零件鍍硬鉻。

高濃度電解液:鉻酐含量約350克/升,允許采用較低的電流密度(15~25A/d㎡),電流效率低(10~12%),分散能力低,深鍍能力好,工作范圍寬,電解液穩(wěn)定,鍍層較軟,裂紋網(wǎng)不顯著。因鍍液濃度高,帶出損失較大。這類電解液適合于各種形狀零件的裝飾性鍍鉻。


電鍍時(shí),陽(yáng)極材料的質(zhì)量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時(shí)

電鍍時(shí),陽(yáng)極材料的質(zhì)量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時(shí)間、攪拌強(qiáng)度、析出的雜質(zhì)、電源波形等都會(huì)影響鍍層的質(zhì)量,需要適時(shí)進(jìn)行控制。首先電鍍液有六個(gè)要素:主鹽、附加鹽、絡(luò)合劑、緩沖劑、陽(yáng)極活化劑和添加劑。電鍍?cè)戆膫€(gè)方面:電鍍液、電鍍反應(yīng)、電極與反應(yīng)原理、金屬的電沉積過程。當(dāng)在陰陽(yáng)兩極間施加一定電位時(shí),則在陰極發(fā)生如下反應(yīng):從鍍液內(nèi)部擴(kuò)散到電極和鍍液界面的金屬離子Mn 從陰極上獲得n個(gè)電子,還原成金屬M(fèi)。