鍍膜機工藝在裝飾品方面的運用跟著經(jīng)濟的開展和生活水平的進步，大家喜愛將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室表里裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五光十色。

鍍膜技能在飛機防護涂層方面的運用飛機的鈦合金緊固件，原來選用電鍍辦法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛翔進程中，遭到大氣、海水的腐蝕，鍍層上簡單發(fā)生"鎘脆"，甚至導致"空難"。1964年，選用離子鍍辦法在鈦合金緊固件上鍍鋁，處理了飛機零件的"鎘脆"疑問。在離子鍍技能中，因為給工件施加負偏壓，能夠構成"偽分散層"、細化膜層安排，因而能夠顯著進步膜層的耐腐蝕功能。

人們把等離子體、離子束引入到傳統(tǒng)的物理氣相沉積技術的蒸發(fā)和濺射中，參與其鍍膜過程，同時通入反應氣體，也可以在固體表面進行化學反應，生成新的合成產(chǎn)物固體相薄膜，稱其為反應鍍。

在濺射鈦(Ti)等離子體中通入反應氣體N2后合成TiN就是一例。

這就是說物理氣相沉積也可以包含有化學反應。又如，在反應室內(nèi)通入，借助于w靶陰極電弧放電，在Ar，W等離子體作用下使分解，并在固體表面實現(xiàn)碳鍵重組，生成摻W的類金剛石碳減摩膜，人們習慣上把這種沉積過程仍歸入化學氣相沉積，但這是在典型的物理氣相沉積技術——金屬陰極電弧離子鍍中實現(xiàn)的。

薄膜(比如銥和鉑薄膜)之所以引起人們的興趣是因為它們具有良好的性能 、高的電導率 、很強的催化活性以及很好的穩(wěn)定性等 。這些性能使得薄膜在電極材料 、微電子 、固態(tài)燃料電池和氣敏元件等許多領域存在廣泛的應用。

在CVD處理過程中，尺寸變形小的材料是硬質(zhì)合金及含Cr高的不銹鋼系合金；沖壓加工領域使用的模具材料主要限于合金工具鋼、冷作模具鋼（Cr12MoV）、硬質(zhì)合金等，其中快冷淬透鋼，由于快冷時容易產(chǎn)生翹曲、扭曲等變形，所以不宜進行CVD處理；而高速鋼是熱處理膨脹較大的鋼種，使用時必須充分估計其膨脹變形量。

濺射（或陰極噴涂）和蒸發(fā)是用于薄膜沉積的常用的PVD方法。

在PVD技術中，釋放或碰撞的熱物理過程將要沉積的材料（目標）轉(zhuǎn)化為原子粒子，然后在真空環(huán)境中在氣態(tài)等離子體條件下將原子粒子定向到基材，通過冷凝或化學反應生成物理涂層。投射原子的積累。該技術的結果是，要沉積的材料類型具有更高的靈活性，并且可以更好地控制沉積膜的成分。連接到高壓電源和真空室的兩個電極構成了PVD反應器。