電鍍電鍍過(guò)程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽(yáng)離子的溶液中，陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下會(huì)遷移到陰極并轉(zhuǎn)化成金屬原子結(jié)晶到磁體表面。燒結(jié)釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復(fù)合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩(wěn)定，在潮濕空氣或含氧的水中則會(huì)生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對(duì)大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結(jié)釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法，沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

鋅液中夾雜過(guò)多其他金屬成分或有害元素，可能造成如鋅渣顆粒粘附在鍍層表面和一些非正常的花紋、龜裂紋等缺陷：

(1)鐵

熱鍍鋅一段時(shí)間后，鋼制件表面會(huì)出現(xiàn)鋅堆積和微小鋅渣顆粒，致使鍍層表面粗糙，光滑度也隨之下降。這種微小顆粒一般是Fe—Zn合金顆粒渣。

鋅液中鐵的來(lái)源一般有鋅鍋的腐蝕、制件的溶解、助鍍劑中的鐵離子及制件上的鐵鹽4方面。因此，為了獲得平整光滑的鍍層，必須嚴(yán)格控制鋅液中鐵含量，減少鐵離子的帶入，控制鋅液溫度，避免鋅液溫度的忽高忽低，降低鋅鍋的腐蝕速度等。