新穎性

指該發(fā)明或者實用新型不屬于現(xiàn)有技術;也沒有任何單位或者個人就同樣的發(fā)明或者實用新型在申請日以前向國i務院專利行政部門提出過申請，并記載在申請日以后公布的專利申請文件或者公告的專利文件中。

創(chuàng)造性

創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術相比，該發(fā)明具有突出的實質性特點和顯著的進步，該實用新型具有實質性特點和進步。

實用性

專利法規(guī)定：“實用性，是指該發(fā)明或者實用新型能夠制造或者使用，并且能夠產生積極效果?！?

能夠制造或者使用，是指發(fā)明創(chuàng)造能夠在工農業(yè)及其它行業(yè)的生產中大量制造，并且應用在工農業(yè)生產上和人民生活中，同時產生積極效果。這里必須指出的是，專利法并不要求其發(fā)明或者實用新型在申請專利之前已經(jīng)經(jīng)過生產實踐，而是分析和推斷在工農業(yè)及其它行業(yè)的生產中可以實現(xiàn)。

非顯而易見性

非顯而易見的：專利發(fā)明必須明顯不同于習知技藝。所以，獲得專利的發(fā)明必須是在既有之技術或知識上有顯著的進步，而不能只是已知技術或知識的顯而易見的改良。這樣的規(guī)定是要避免發(fā)明人只針對既 有產品做小部份的修改就提出專利申請。若運用習知技藝或為熟習該類技術都能輕易完成，無論是否增加功效，均不符合專利的進步性精神;而在該專業(yè)或技術領域 的人都想得到的構想，就是顯而易見的，是不能申請專利的。

適度揭露性

適度揭露：為促進產業(yè)發(fā)展，國家賦予發(fā)明人獨占的利益，而發(fā)明人則需充份描述其發(fā)明的結構與運用方式，以便利他人在取得發(fā)明人同意或專利到 期之后，能夠實施此發(fā)明，或是透過專利授權實現(xiàn)發(fā)明或者再利用再發(fā)明。如此，一個有價值的發(fā)明能對社會、國家發(fā)展有所貢獻。

什么是知識產權產業(yè)？

知識產權產業(yè)是指圍繞知識產權產品和服務的創(chuàng)造、運用、保護、管理四個方面開展的產生知識產權產品、實現(xiàn)知識產權價值、提供知識產權服務等一系列經(jīng)濟活動的統(tǒng)稱。

知識產權產業(yè)的特征：

知識產權產業(yè)是伴隨著國家及企業(yè)對知識產權的日益重視而快速發(fā)展起來，作為以知識產權為驅動力的產業(yè)形態(tài)，具有以下特征:

(1)高創(chuàng)新、高創(chuàng)意性。知識產權產業(yè)發(fā)展的過程就是創(chuàng)新、創(chuàng)意產生的過程。高層次的產業(yè)競爭力表現(xiàn)在研發(fā)階段和銷售及售后服務階段，這兩個階段則是以專利、版權和商標為支撐的，而專利、版權和商標等知識產權產品和服務主要作用在價值鏈的前端研發(fā)環(huán)節(jié)及后端的服務環(huán)節(jié)，占據(jù)產業(yè)鏈的高i端環(huán)節(jié)，由此看來，知識產權產業(yè)具有高創(chuàng)新、高創(chuàng)意的特征。

(2)高附加值、高i端性。知識產權產業(yè)本質上是科學技術進步、經(jīng)濟發(fā)展和社會分工不斷深化的結果，知識產權產業(yè)處于價值鏈的高i端環(huán)節(jié)，與創(chuàng)新特別是技術創(chuàng)新具有密切的聯(lián)系，并通過專利、版權、標準等形式控制全球產業(yè)的核心競爭力，知識產權的倍增性和獨占性使得知識產權產業(yè)呈現(xiàn)高附加值、高i端性等特征。

(3)高i滲透、高關聯(lián)性。隨著社會整體知識產權意識的提升，企業(yè)競爭的加劇等，知識產權產業(yè)已滲透到國民經(jīng)濟與社會發(fā)展的各個領域，知識產權作用于各行業(yè)、各產業(yè)門類及產業(yè)化過程，對國民經(jīng)濟各產業(yè)部門具有支撐性、基礎性作用。知識產權產業(yè)所創(chuàng)造的知識產權成果或知識產權產品可以在其他產業(yè)領域得到廣泛運用，輻射帶動相關產業(yè)發(fā)展。

發(fā)明專利證書

發(fā)明專利證書首頁記載以下內容：發(fā)明的名稱、發(fā)明人姓名、專利號、專利申請日、專利權人姓名或名稱(即申請人姓名或名稱)、授權公告日、時任國家知i識產權局局長簽字、國家知i識產權局章等。專利證書還包括有專利授權文本。

依據(jù)專利法，發(fā)明專利申請的審批程序包括受理、初審、公布、實質審查以及授權五個階段。

發(fā)明專利的授權過程比較漫長，通常從遞交申請開始，多則一兩年，少則半年，才能獲得授權，從而拿到發(fā)明專利證書。

發(fā)明專利權的期限為二十年，自申請日起計算。