【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項

以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品，歡迎新老客戶蒞臨。

磁控濺射鍍膜設備是目種鍍膜產(chǎn)品，相比傳統(tǒng)的水電鍍來講，磁控濺射鍍膜設備無毒性，能夠掩蓋，彌補多種水電鍍的缺陷。

近年來磁控濺射鍍膜設備技術(shù)得到了廣泛的應用，現(xiàn)國內(nèi)磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多，但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產(chǎn)，

經(jīng)驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家，就一定會有一定的規(guī)模，這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西，

磁控濺射鍍膜設備其技術(shù)含量非常的高，選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設備技術(shù)含量高，那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術(shù)工程隊伍，

磁控濺射鍍膜設備行業(yè)資深的，磁控濺射鍍膜設備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設計配置。

自動磁控濺射系鍍膜機介紹

以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

自動磁控濺射系統(tǒng)選配項：

RF、DC濺射

熱蒸鍍能力

RF或DC偏壓（1000V）

樣品臺可加熱到700°C

膜厚監(jiān)測儀

基片的RF射頻等離子清洗

應用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

光學以及ITO涂覆

帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

帶RF射頻等離子放電的反應濺射

磁控濺射系統(tǒng)介紹

想了解更多關(guān)于磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊，請持續(xù)關(guān)注本公司。

真空泵和測量裝置：

低真空：干泵和convectron真空規(guī)

高真空：渦輪分子泵，低溫泵和離子規(guī)

5.控制系統(tǒng)：

硬件：PLC和計算機觸摸屏控制

自動和手動沉積控制

主要特點：

射頻電源：基底預先清洗和等離子體輔助沉積

溫度控制器：基底加熱

大面積基底傳送裝置

冷卻系統(tǒng)

小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)簡介

小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)適合于快速濺射鍍膜科研、教學與小批量打樣，可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。

具有一體化、占用空間小、靈活的特點，無需380V工業(yè)電，無需額外冷水機，采用無油干泵分子泵組，無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染。

保證設備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性。觸摸屏控制界面，帶來簡單、操作方便的體驗。

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