1溫度對(duì)微弧氧化的影響

微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10-90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會(huì)形成水氣。一般建議在20-60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。

2.時(shí)間對(duì)微弧氧化的影響

微弧氧化時(shí)間一般控制在10~60min。氧化時(shí)間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

3.陰極材料

陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

4.后處理對(duì)微弧氧化的影響

微弧氧化過后，工件可不經(jīng)過任何處理直接使用，也可進(jìn)行封閉，電泳，拋光等后續(xù)處理。折疊

什么是微弧氧化？微弧氧化膜層生長過程是怎樣的？

微弧氧化技術(shù)(MAO)是在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一項(xiàng)新技術(shù)，是在含有特定離子的電解液中，通過弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點(diǎn)。

日照微弧技術(shù)有限公司秉承“真誠服務(wù)、信譽(yù)為先”的經(jīng)營理念，非常注重產(chǎn)品質(zhì)量，贏得了廣大客戶的一致好評(píng)，竭誠歡迎新老客戶前來洽談、惠顧！

微弧氧化工藝

微弧氧化工藝技術(shù)是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術(shù)。微弧氧化工藝技術(shù)工藝簡單，對(duì)環(huán)境污染小，具備很大的優(yōu)越性，它制備的膜層特點(diǎn)鮮明，膜層與基體金屬屬于冶金結(jié)合，結(jié)合牢固，在制備涂層方面具有明顯優(yōu)勢(shì)，微弧氧化技術(shù)已被廣泛應(yīng)用于Al、Ti 和Mg等金屬行業(yè)，是一種很有前景的表面處理工藝。

微弧氧化如何動(dòng)電位極化曲線檢測？

采用電化學(xué)工作站的三電極體系進(jìn)行測試，測試前為了保證良好的導(dǎo)電性需將試樣一面的陶瓷膜層打磨掉，然后浸泡于質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%的NaCl水溶液中進(jìn)行測試。動(dòng)電位范圍設(shè)置為-0.2V~ 0.4V(相對(duì)于開路電位)，掃描速度為1mV/s。采用EchemAnalyst 軟件對(duì)極化曲線進(jìn)行Tafel 擬合得到電化學(xué)參數(shù)。