稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。

　　對于一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數(shù)情況下，顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標準拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高質(zhì)量的表面，而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。

因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經(jīng)問世，隨著現(xiàn)代科學技術的發(fā)展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬于研發(fā)階段。

　　主要指標：產(chǎn)品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經(jīng)1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉(zhuǎn)化成w（CeO2）=80%~85%的中級系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優(yōu)溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設備：氧化槽，優(yōu)溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。

在稀土拋光粉的消費中，日本是消費者，每年約生產(chǎn)3550噸~4000噸拋光粉，產(chǎn)值35億~40億日元，還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期，日本陰極射線管的生產(chǎn)轉(zhuǎn)向海外，而平面顯示產(chǎn)品產(chǎn)量迅速增加，對基拋光粉的需求量也迅速增加。估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產(chǎn)上消費的拋光粉約占其市場的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產(chǎn)技術和設備向海外轉(zhuǎn)移，如：日本清美化學從1989年開始在海外生產(chǎn)陰極射線管用基拋光粉。