為了驗證有限元計算的結(jié)果，對真空室的形變和補償進行了測試。第壹步，將四只千分表定位在工作臺安裝基點的真空壁外側(cè)，當真空室由大氣抽到真空時，記錄各千分表的變化量，經(jīng)過一化處理后為用激光自準直儀調(diào)整變補償。真空鍍膜價格由水平調(diào)整的自準直儀發(fā)出一束激光穿過真空室的玻璃窗照射固定于工作臺上的反射鏡，在大氣環(huán)境下調(diào)整變補償調(diào)節(jié)機構(gòu)，使反射光束進入自準直儀接收視場，記錄兩維角度偏差。

金屬電鍍加工廠電鍍要進行以下這樣的進程:首要金屬真空鍍膜加工廠在盛有電鍍液的鍍槽中，通過整理和特別預(yù)處理的待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽極，南北極別離與直流電源的負極和正極聯(lián)接。電鍍液由富含鍍覆金屬的化合物、導(dǎo)電的鹽類、緩沖劑、pH調(diào)節(jié)劑和添加劑等的水溶液組成。通電后，電鍍液中的金屬離子，在電位差的效果下移動到陰極上構(gòu)成鍍層。陽極的金屬構(gòu)成金屬離子進入電鍍液，以堅持被鍍覆的金屬離子的濃度。

高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器初步、一直到新式建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需求。透水性膜用以拍照和林林總總激光發(fā)生器的起動，直至在建大中型鍍層夾層玻璃，對錯常有必要的。增透膜則很多用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。

   在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的位置。各種設(shè)計的承繼電路。包含存貯器、運算器、奉告邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（CCD）也都甬道各種薄膜。

pvd真空蒸發(fā)鍍膜：定義：pvd真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。真空蒸發(fā)踱膜主要經(jīng)歷：1、采用各種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能星的氣態(tài)粒子（原子、分子和原子團）；2、離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；3、到達基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；4、組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學鍵合。