氣體管路控制系統(tǒng)作用

主要由氣源切換系統(tǒng)、管道系統(tǒng)、調(diào)壓系統(tǒng)、用氣點(diǎn)、監(jiān)控及報(bào)警系統(tǒng)組成。對(duì)于一些易1燃易1爆氣體，如氫氣等，可能在設(shè)計(jì)和施工過程中稍有差異，必須加入氣體回火防止器等安全控制裝置。

閥門是在流體系統(tǒng)中，用來控制流體的方向、壓力、流量的裝置，是使配管和設(shè)備內(nèi)的介質(zhì)(液體、氣體、粉末)流動(dòng)或停止并能控制其流量的裝置。閥門是管路流體輸送系統(tǒng)中控制部件，用來改變通路斷面和介質(zhì)流動(dòng)

方向，具有導(dǎo)流、截止、節(jié)流、止回、分流或溢流卸壓等功能。

氣體管路控制系統(tǒng)可以用于管理控制氣體供應(yīng)，包括流量，壓力，開關(guān)等，同時(shí)帶有泄漏報(bào)警1燈功能，能夠有效保護(hù)用氣安全。

以上是由艾明坷發(fā)表內(nèi)容，如有需要，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

實(shí)驗(yàn)室供氣系統(tǒng)氣體管路

實(shí)驗(yàn)室供氣管路系統(tǒng)工程主要是為試實(shí)驗(yàn)室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的標(biāo)準(zhǔn)氣體，保證其儲(chǔ)存和使用的安全性。保障分析測(cè)試人員在實(shí)驗(yàn)中免受有毒有害氣體的侵害。按照國標(biāo)要求，將所用全部氣體存放于儲(chǔ)氣間，并實(shí)現(xiàn)集中輸送，組成中央供氣系統(tǒng)。系統(tǒng)采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)分段控制和在多拖一和多拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)切換控制；并能夠保證標(biāo)準(zhǔn)氣體流量、壓力穩(wěn)定和量值傳遞不發(fā)生變化，滿足分析檢測(cè)設(shè)備對(duì)使用氣體的技術(shù)要求。并能夠保證標(biāo)準(zhǔn)氣體流量、壓力穩(wěn)定和量值傳遞不發(fā)生變化，滿足分析檢測(cè)設(shè)備對(duì)使用氣體的技術(shù)要求。

以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是高純供氣系統(tǒng)的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)您有所幫助！

電子特氣系統(tǒng)的維護(hù)

由于特氣系統(tǒng)是一種具有高風(fēng)險(xiǎn)的供應(yīng)系統(tǒng)，因此在生產(chǎn)線現(xiàn)場(chǎng)的維護(hù)需要專業(yè)、有經(jīng)驗(yàn)的技術(shù)員完成。特氣系統(tǒng)的維護(hù)主要包含氣體柜維護(hù)和管路維護(hù)。

（1）特氣柜又分為全自動(dòng)特氣柜與半自動(dòng)特氣柜，每種氣柜的維護(hù)方法有一定的區(qū)別。全自動(dòng)氣柜維護(hù)自動(dòng)化程度較高，并且安全可靠。在維護(hù)前關(guān)閉鋼瓶閥門，設(shè)置換瓶吹掃，程序自動(dòng)進(jìn)行抽氣，置換等動(dòng)作，根據(jù)氣體性質(zhì)的不同，一般至少吹掃60次以上，負(fù)壓保壓30分鐘以上，確保氣柜各管路與閥門吹掃干凈。以上兩種系統(tǒng)維護(hù)后都必須做正壓與負(fù)壓的保壓測(cè)試，一般正壓保壓壓力為使用壓力的1。

（2）管路的維護(hù)，由于不同的氣體性質(zhì)不一樣，對(duì)管路維護(hù)的方法也不相同，對(duì)腐蝕性氣體的管道需要多次用高純氮?dú)獯祾撸∟2purge），一般至少反復(fù)30次，對(duì)于有吸附性的液態(tài)源氣體，由于管路容易堵塞，需要多次的反復(fù)的抽真空，抽完后關(guān)閉閥門，1小時(shí)后會(huì)出現(xiàn)壓力表回表的現(xiàn)象，會(huì)造成管道泄漏的誤導(dǎo)，遇到此情況打開真空器發(fā)生器繼續(xù)抽，直到?jīng)]有吸附氣體釋放為止。艾明坷科技有限公司主營手套箱，如需了解更多詳情,歡迎與我們交流。

以上兩種系統(tǒng)維護(hù)后都必須做正壓與負(fù)壓的保壓測(cè)試，一般正壓保壓壓力為使用壓力的1.2倍，負(fù)壓保壓為-12PSI，保壓時(shí)間至少120分鐘以上，由于壓力傳感器（PT）受溫度的影響，一般有2PSI的正負(fù)波動(dòng)。

想了解更多產(chǎn)品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢！

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對(duì)高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。具體要求如下：①可燃?xì)怏w比空氣輕者，報(bào)警裝置設(shè)置在所處場(chǎng)所的頂部。

本信息由艾明坷為您提供，如果您想了解更多產(chǎn)品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢，艾明坷竭誠為您服務(wù)！