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磁控濺射機(jī)-磁控濺射機(jī)多少錢(qián)-沈陽(yáng)鵬程(推薦商家)

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發(fā)布時(shí)間:2022-01-04 05:11  





【磁控濺射鍍膜設(shè)備】使用注意事項(xiàng)

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磁控濺射鍍膜設(shè)備是目種鍍膜產(chǎn)品,相比傳統(tǒng)的水電鍍來(lái)講,磁控濺射鍍膜設(shè)備無(wú)毒性,能夠掩蓋,彌補(bǔ)多種水電鍍的缺陷。

近年來(lái)磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用,現(xiàn)國(guó)內(nèi)磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家大大小小的也非常多,但是專注于磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn),

經(jīng)驗(yàn)豐富的卻造磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家,就一定會(huì)有一定的規(guī)模,這類(lèi)磁控濺射鍍膜設(shè)備不像是小件的東西,

磁控濺射鍍膜設(shè)備其技術(shù)含量非常的高,選購(gòu)磁控濺射鍍膜設(shè)備時(shí)一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)含量高,磁控濺射機(jī)公司,那么就一定要擁有一個(gè)非常強(qiáng)大的磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)工程隊(duì)伍,

磁控濺射鍍膜設(shè)備行業(yè)資深的,磁控濺射鍍膜設(shè)備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設(shè)計(jì)配置。



磁控濺射鍍膜機(jī)的工作原理是什么?

磁控濺射原理:電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與原子發(fā)生碰撞,電離出大量的離子和電子,電子飛向基片。離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與原子發(fā)生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材,經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠(yuǎn)離靶材,沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑,改變電子的運(yùn)動(dòng)方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽(yáng)極在同一電勢(shì)。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用( E X B drift)使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場(chǎng)磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會(huì)對(duì)成膜有很大關(guān)系。在E X B shift機(jī)理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,磁控濺射機(jī)價(jià)格,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場(chǎng)方向,電壓電流大小而已

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年磁控濺射產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗(yàn),磁控濺射機(jī)多少錢(qián),專注磁控濺射產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn),先進(jìn)的磁控濺射產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù),磁控濺射機(jī),建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話!?。?/p>



磁控濺射系統(tǒng)介紹

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真空泵和測(cè)量裝置:

低真空:干泵和convectron真空規(guī)

高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī)

5.控制系統(tǒng):

硬件:PLC和計(jì)算機(jī)觸摸屏控制

自動(dòng)和手動(dòng)沉積控制

主要特點(diǎn):

射頻電源:基底預(yù)先清洗和等離子體輔助沉積

溫度控制器:基底加熱

大面積基底傳送裝置

冷卻系統(tǒng)



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