電子束結構介紹

粒子增速器的結構可以與顯像管類比。顯像管中的電子槍對應于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對應于增速器中的高壓加速電極及加速腔。顯像管中控制電子運動的電偏轉板與聚焦電子的聚焦線圈，對應于增速器中控制粒子運動軌道和聚焦粒子束流的多種電磁部件，如導向磁鐵、聚焦磁鐵、多極校正磁鐵等。采用晶振膜厚儀如需了解更多電子束產品的相關信息，歡迎關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網站或撥打圖片上的熱點電話，我司會為您提供專業(yè)、周到的服務。對粒子增速器的粒子運行管道來說，為了減少粒子在運動中與殘余氣體碰撞而造成粒子的丟失和束流性能變壞，所要求的真空度比顯像管要高數千到數萬倍。隨著科學技術的不斷發(fā)展，根據科學家對粒子能量和流強的不同要求，陸續(xù)產生了不同原理、不同結構的多種增速器。

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電子束蒸發(fā)鍍膜機各部件介紹

1、烘烤照明系統(tǒng)1套。烘烤溫度：室溫-150℃。（在10-4Pa時，真空室內殘余氣體的組合，水蒸汽約占 90%以上，因此在該壓強下進行蒸鍍，實際上相當于在水蒸汽中制膜，為了減少水份，提高真空室溫，使水分解，是提高膜層質量的一種可行辦法）。

2、電控柜：標準電控柜，組裝總控制電源、真空系統(tǒng)控制（分子泵、機械泵電源、擋板等）、數顯真空計等。柜底下配腳輪，方便移動、定位。

3、手動按鈕式操作，備留機電轉換及控制接口，方便實驗記錄.

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電子束鍍膜屬于蒸鍍還是濺射？

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1.蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。

2.蒸發(fā)鍍主要包括：電阻加熱蒸發(fā)、感應加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、激光加熱蒸發(fā)、離子束蒸鍍等。

3.您所說的E型槍鍍膜和直型電子槍鍍膜都是屬于熱蒸發(fā)鍍膜的范疇。

4.S槍濺射實際就是錐形磁控濺射靶，陰極靶材為環(huán)狀錐形，安裝在水冷座上。環(huán)狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直于靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運動，電子流密度很大，在靶面附近產生很強的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強的等離子體。與傳統(tǒng)蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材，使之融化進而沉積在基片上。