氮化鈦的結(jié)構(gòu)及性能

TiN具有典型的NaCl型結(jié)構(gòu)，屬面心立方點(diǎn)陣，面心立方的頂部是氮原子，鈦原子位于面心立方的(1/2,0,0)空間位置。TiN是非化學(xué)計(jì)量化合物，其穩(wěn)定的組成范圍為TiN0.6~TiN1.16，氮的含量可以在一定的范圍內(nèi)變化而不引起TiN結(jié)構(gòu)的變化。TiN粉末一般呈黃褐色，超細(xì)TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。TiN的晶格常數(shù)為a=4.23 nm，TiC的晶格常數(shù)為a=4.238 nm，TiO的晶格常數(shù)為a=4.15 nm，這三種物質(zhì)的晶格參數(shù)非常接近，所以TiN分子中的氮原子可以被氧、碳原子以任意比取代形成固溶體，氮化鈦的理化性質(zhì)由氮元素的含量來決定，當(dāng)?shù)睾繙p少時(shí)，氮化鈦的晶格參數(shù)反而增大，硬度也會(huì)有顯微的增大，但氮化鈦的抗震性隨之降低。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話，這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以作成對(duì)某種波長的吸收，而對(duì)另一種波長的透射的濾色pian。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要增透膜則大量用于照相和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空PVD鍍膜涂層對(duì)鋼材的摩擦系數(shù)在0.01～0.6之間，常用于壓鑄模具的真空PVD鍍膜涂層材料（AlCrN，AlTiN）摩擦系數(shù)一般在0.4-0.6，低的摩擦系數(shù)使經(jīng)過真空PVD鍍膜處理的模具在加工過程中與被加工零件的表面摩擦降低，零件表面品質(zhì)優(yōu)于沒有涂層的模具所生產(chǎn)的零件。壓鑄模具的生產(chǎn)條件zui嚴(yán)苛，在高溫600-800℃的金屬溶液，通過高壓力注射，并且模具表面不停的熱脹冷縮，導(dǎo)致壓鑄模具的使用壽命很短，在生產(chǎn)時(shí)不停的需要修模、維護(hù)。導(dǎo)致壓鑄模具失效的主要是龜裂，沖蝕，黏料和變形等失效方式。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制