真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。

化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

常用的光學鍍膜有哪些？

雖然薄膜的光學現(xiàn)象早在17世紀就為人們所注意，但是把光學薄膜作為一個課題進行專門研究卻開始于20世紀30年代以后，這主要因為真空技術的發(fā)展給各種光學薄膜的制備提供了先決條件。發(fā)展到今日，光學薄膜已得到很大發(fā)展，光學薄膜的生產(chǎn)已逐步走向系列化、程序化和專業(yè)化，但是，在光學薄膜的研究中還有不少問題有待進一步解決，光學薄膜現(xiàn)有的水平在不少工作中還不能滿足要求，需要提高。在理論上，不但薄膜的生長機理需要搞清光學薄膜，而且薄膜的光學理論，特別是應用于極短波段的光學理論也有待進一步完善和改進。在工藝上，人們還缺乏有效的手段實現(xiàn)對薄膜淀積參量的精準控制，這樣，薄膜的生長就具有一定程度的隨機性，薄膜的光學常數(shù)、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩(wěn)定性和盲目性，這一切都限制了光學薄膜質量的提高。所以，光學薄膜發(fā)展至今也可以說是一個飛躍性的進步了，今天首先賡旭光電小編和大家一起來認識一下生活當中常見的幾種光學薄膜。

一，減反射膜：又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。

簡單的增透膜是單層膜，它是鍍在光學零件光學表面上的一層折射率較低的薄膜。當薄膜的折射率低于基體材料的折射率時,兩個界面的反射系數(shù)r1和r2具有相同的

光學薄膜：位相變化。如果膜層的光學厚度是某一波長的四分之一，相鄰兩束光的光程差恰好為π,即振動方向相反，疊加的結果使光學表面對該波長的反射光減少。適當選擇膜層的折射率，使得r1和r2相等，這時光學表面的反射光可以完全消除。

一般情況下，采用單層增透膜很難達到理想的增透效果,為了在單波長實現(xiàn)零反射,或在較寬的光譜區(qū)達到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數(shù)的減反射膜。圖1的a、b、c分別繪出Kg玻璃表面的單層、雙層和三層增透膜的剩余反射曲線。

AF真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品特性

AF真空鍍膜機大家可能平時接觸的很少，但是這款型號設備使用范圍卻很廣泛，比如：手機，平板電腦，顯示器，數(shù)碼產(chǎn)品，電器，衛(wèi)浴和金屬件等鍍膜層都有用到這款設備，下面至成真空鍍膜小編為大家詳細介紹一下這款設備的鍍膜產(chǎn)品特性。

1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；

2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；

3）膜層?。簝?yōu)異光學性能、不改變原有的紋理；

4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品應用領域：手機、平板、電視、LED等玻璃AR---anti-reflection，中文為抗反射增透，通過提高玻璃（屏幕）透光率，降低玻璃（屏幕）反射率達到增透目的?？蛇x擇材料比較多，一般用高低折射率材料交叉堆疊鍍上去，可采用真空蒸發(fā)鍍也可采用磁控濺射鍍。