鋼研納克SparkCCD7000

高分辨率 CCD 檢測器

像素數(shù)：3648 46 全行業(yè)較高

像素尺寸：8μm 全行業(yè)較小

精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量 N

萬級超凈環(huán)境下打造較優(yōu)光學(xué)系統(tǒng)

帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng)，無像差，分辨率均勻

高發(fā)光全息光柵，光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm，全行業(yè)較高

線分辨率 0.7407nm/mm

像素分辨率 0.005926nm

譜線范圍：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元素）

智能控制系統(tǒng)，再啟動耗時行業(yè)較低

潮汐式?jīng)_洗方式，冷機(jī)（關(guān)機(jī) 12 小時）啟動只需 30min，熱機(jī)啟動時間 5min

智能判斷分析間隔時間，合理補(bǔ)充氣，降低氣消耗

60ml/min 超低待機(jī)流量，一瓶氣 24 小時待機(jī) 70 天

分片式曝光，痕量元素識別強(qiáng)度大幅提高，檢出限更低

一次激發(fā)，分片曝光，同時采集，同時回數(shù)

獨立控制不同 CCD 的積分曝光時間

提升痕量元素的強(qiáng)度，降低儀器的檢出限

隨波段調(diào)節(jié)積分時間，提升儀器的 穩(wěn)定性

現(xiàn)在有些品牌號稱能夠用火花直讀光譜儀(OES)直接分析灰口鑄鐵，不知道是否可信。畢竟幾十年的(OES)工作經(jīng)驗，告訴我們，灰口鑄鐵必須白口化（也就是急冷使得片狀石墨的灰鐵變成游離碳化物，以滲碳體的白口鑄鐵），才能用光譜儀分析。

直讀光譜儀是用電?。ɑ鸹ǎ┑母邷厥箻悠分懈鞣N元素從固態(tài)直接氣化并被激發(fā)而射出各元素的特征波長，經(jīng)光柵分光后，成為按波長排列的“光譜”，這些元素的特征光譜線通過出射狹縫，射入各自的檢測器，光信號變成電信號，經(jīng)儀器的控制測量系統(tǒng)將電信號積分并進(jìn)行模/數(shù)轉(zhuǎn)換，然后由計算機(jī)處理，并計算出各元素的百分含量。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動時，兩條線對的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對強(qiáng)度能保持不變。

如R表示強(qiáng)度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。

光電法時，有時還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量，稱為自動曝光，也就是樣品在曝光時，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時，自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因為R=I1/Io，而此時Io保持常數(shù))這個強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計時曝光法較為普遍。