UV-PLUS光學(xué)系統(tǒng)：SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)集合了兩種檢測(cè)器的優(yōu)勢(shì)：光電倍增管和CCD檢測(cè)器。采用了優(yōu)化的帕邢——龍格架構(gòu)，光學(xué)系統(tǒng)的機(jī)械結(jié)構(gòu)異常堅(jiān)固，同時(shí)減少了內(nèi)部空間體積。內(nèi)部恒溫、恒壓確保光學(xué)系統(tǒng)不受外界環(huán)境變化和影響。UV-PLUS技術(shù)用于保障遠(yuǎn)紫外光譜范圍的測(cè)量。密封光室內(nèi)部在儀器出廠前充入高純氣，保證遠(yuǎn)紫外光譜的透過(guò)率。光室內(nèi)的氣由分子薄膜泵驅(qū)動(dòng)循環(huán)至凈化裝置，以保證內(nèi)部氣的高純度。這類儀器是一種利用物理電能激發(fā)，使試樣中不同化學(xué)元素原子發(fā)生能級(jí)躍遷而產(chǎn)生不同光譜，并使其轉(zhuǎn)換為電信號(hào)進(jìn)行定量檢測(cè)的大型精密儀器。

UV-PLUS光學(xué)系統(tǒng)是純凈的，同時(shí)具有杰出的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。系統(tǒng)在120-180nm波段透光效率，運(yùn)行成本很低。

的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與UV-PLUS概念相結(jié)合，能夠同時(shí)以高達(dá)9pm的光譜分辨率記錄120-800nm波段的全部一級(jí)光譜圖。這一核心技術(shù)奠定了SPECTROLAB杰出分析性能的重要基礎(chǔ)。

國(guó)內(nèi)大多數(shù)鑄造及大型鋼鐵企業(yè)通過(guò)先進(jìn)儀器迅速提高了分析檢測(cè)裝備水平。

目前，光電直讀光譜儀已成為鑄件化學(xué)成分分析的首儀器，X熒光光譜分析儀則是生鐵和其它礦類樣化學(xué)成分分析的首儀器。由于這類儀器集光、機(jī)、電、算（計(jì)算機(jī)）等方面的新技術(shù)于一體，配備相當(dāng)精密的物理與幾何光學(xué)系統(tǒng)，精密機(jī)械系統(tǒng)，電子傳感測(cè)量系統(tǒng)，計(jì)算機(jī)控制與數(shù)據(jù)處理及人機(jī)界面系統(tǒng)。使其具有的選擇性好、靈敏度、準(zhǔn)確性、穩(wěn)定性高的性能，又具快速化、自動(dòng)化、智能化、多功能的特點(diǎn)。第三點(diǎn)要檢查激發(fā)點(diǎn)的位置上是否有微小裂紋，氣孔和砂眼，激發(fā)點(diǎn)有無(wú)重疊等，提供給數(shù)據(jù)處理工作時(shí)做重要的參考。

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直讀光譜儀器日常分析中造成曲線漂移的因素很多：透鏡受到污染形成涂層、激發(fā)過(guò)程中電極長(zhǎng)尖會(huì)使曲線顯示背景增大，亞氣流量、壓力、純度和室溫環(huán)境的變化等原因會(huì)造成曲線的漂移，因此，經(jīng)常校正工作曲線是非常重要的。選擇一組標(biāo)準(zhǔn)化樣品是不易的，其中包括所有要分析元素的高含量和低含量，這些標(biāo)準(zhǔn)化樣品必須均勻一致，激發(fā)光譜分析的數(shù)據(jù)重復(fù)性必須很高。同時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)化樣品的數(shù)量應(yīng)盡可能少些，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)化樣品價(jià)格昂貴，且對(duì)每個(gè)樣品的操作又需要額外時(shí)間。直讀光譜儀器為什么要選擇高低標(biāo)樣？手持合金分析儀的應(yīng)用：合金分析儀是基于X射線理論而誕生的，它主要用于航天、鋼鐵、石化、電力、制藥等領(lǐng)域金屬材料中元素成份的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)定。在單點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)化中，只需要高或低含量的標(biāo)準(zhǔn)。如果樣品覆蓋的含量范圍較寬，又要在低含量時(shí)有較高的精度，此時(shí)才需要兩點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)化，這時(shí)要有兩種標(biāo)樣，一為高標(biāo)，一為低標(biāo)?；蛘呙總€(gè)標(biāo)樣中包含一些高濃度元素和另一些低濃度元素，只要它們能包括所有元素就行。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制