化學(xué)清洗和安全知識

1 化學(xué)清洗

在半導(dǎo)體器件工藝實(shí)驗(yàn)中?；瘜W(xué)清洗是指去除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料和器具表面的各種有害雜質(zhì)或油漬。清洗方法是利用各種化學(xué)試劑和有機(jī)助熔劑，使吸附在被清洗物體表面的雜質(zhì)和油類發(fā)生化學(xué)反應(yīng)溶解，或輔以超聲波、加熱、真空等物理措施，將雜質(zhì)除去。從要清潔的物體。表面解吸（或解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，得到干凈的表面。

1.1 化學(xué)清洗的重要性

工藝實(shí)驗(yàn)中的每個實(shí)驗(yàn)都有化學(xué)清洗的問題?；瘜W(xué)清洗的質(zhì)量對實(shí)驗(yàn)結(jié)果有嚴(yán)重影響。如果過程處理不當(dāng)，將得不到實(shí)驗(yàn)結(jié)果或?qū)嶒?yàn)結(jié)果很差。因此，了解化學(xué)清洗的作用和原理對工藝實(shí)驗(yàn)具有重要意義。眾所周知，儲罐清洗，半導(dǎo)體的重要特性之一是對雜質(zhì)非常敏感。只要有百萬分之一甚至少量的雜質(zhì)，就會對半導(dǎo)體的物理性能產(chǎn)生影響。方法。各種功能半導(dǎo)體器件的制造。但也正是因?yàn)檫@個特點(diǎn)，給半導(dǎo)體器件的工藝實(shí)驗(yàn)帶來了麻煩和困難。用于清潔的化學(xué)試劑、生產(chǎn)工具和水可能成為有害雜質(zhì)的來源。即使是干凈的半導(dǎo)體晶圓更長時間暴露在空氣中也會引入明顯的污染物?；瘜W(xué)清洗是去除有害雜質(zhì)，保持硅片表面清潔。

甲酸與羥基的混酸清洗

關(guān)于結(jié)垢嚴(yán)峻而且大面積發(fā)作晶間腐蝕的亞臨界參數(shù)鍋爐，運(yùn)用EDTA和檸檬酸都無法使除垢率抵達(dá)90％以上時，應(yīng)選用甲酸與羥基的混酸清洗。甲酸與羥基清洗以除垢為主，兼有使垢剝離墜落作用。關(guān)于穩(wěn)固而附著堅(jiān)固的腐蝕產(chǎn)品，首要靠酸溶作用去除。普通用5％的甲酸與5％的羥基，并參與0.3％的二鄰緩蝕劑停止清洗。在鍋爐中參與軟化水至汽包水位，加熱升溫循環(huán)，當(dāng)溫度達(dá)95cc時，將混酸注入鍋爐并繼續(xù)加熱，撫州清洗，堅(jiān)持93～97℃溫度，翅片清洗，停止循環(huán)清洗。每隔15min取樣一次，剖析清洗液中的酸濃度、Fe2’、Fe3’離子濃度。假定酸濃度降落到原濃度的40％時，應(yīng)補(bǔ)償混酸溶液。酸洗時間均為6～8h。當(dāng)酸濃度和Fe3’離子濃度安穩(wěn)不變時，可連續(xù)酸洗，用氮?dú)忭敵鏊嵯匆汉笥?0~C的軟化水沖刷，然后鈍化。

7 鍋爐化學(xué)清洗系統(tǒng)的規(guī)劃

鍋爐在化學(xué)清洗時，清洗液在鍋爐中的運(yùn)動規(guī)矩與鍋爐正常工作時水、汽的運(yùn)動規(guī)矩是不同的。而且關(guān)于一些鍋爐，化學(xué)清洗普通是水的加熱段而非鍋爐系統(tǒng)的全部。因而，在對鍋爐停止化學(xué)清洗前，有必要對鍋爐停止恰當(dāng)?shù)母脑欤\(yùn)用暫時管線把鍋爐和清洗設(shè)備相結(jié)合構(gòu)成清洗系統(tǒng)。

形成水垢的第三個原因：

隨著溫度的升高，某些鹽的溶解度逐漸降低，然后沉淀。自來水和污垢的雜物是由于長期使用導(dǎo)致熱水器產(chǎn)生的微生物而形成的。沉積物，雜質(zhì)和污垢會粘在水箱和真空管的壁上，形成溶解的水垢。

結(jié)垢不僅使家用熱水器，鍋爐和其他設(shè)備的導(dǎo)熱性極差，浪費(fèi)能源（電能或），給家庭經(jīng)濟(jì)造成負(fù)擔(dān)，供熱設(shè)備清洗，還會使熱交換器過熱，縮短使用壽命甚至發(fā)生事故;水垢會堵塞水管并導(dǎo)致水流。，甚至更換水管，導(dǎo)致裝修損壞等后果！

因此，為了防止上述問題的發(fā)生，請快來清洗管道！

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