藥品生產中如何使用次氯酸？

次氯酸（HCLO）可用于維持制造的無菌環(huán)境。 HCLO可為現(xiàn)場清潔系統(tǒng)去除生物膜并消毒管道。HCLO可用于設備和儀器的冷殺菌。

溶液優(yōu)勢：

1、殺菌廣譜：可快速殺滅細菌、真菌、病毒、芽孢型菌類等微生物。

2、清除生物膜：可完全清除生物膜并抑制其生成;

3、安全環(huán)保：DCW次氯酸溶液可作為皮膚黏膜殺菌，若不慎濺入眼部，用

清水沖洗即可，即使誤食也不會對人造成傷害;

4、低腐蝕性：標準型次氯酸發(fā)生器腐蝕性遠遠低于同類氯制劑產品，低氯型

次氯酸發(fā)生器腐蝕性更低，1ppm的溶液與自來水的腐蝕性相當;

5、成本低：一升濃度為500ppm的次氯酸溶液的生產成本不足0.03元;

6、無殘留：殺菌后自然降解成鹽和水。

次氯酸發(fā)生器產生次氯酸的方式有幾種，一種是電解稀鹽酸，一種是電解飽和鹽水，還有一種是用弱酸與次配比而成。

稀鹽酸和次腐蝕性高，在操作時對人或設備存在潛在的危害，操作時要注意安全。電解飽和鹽水相比安全很多，不會對人、設備和環(huán)境造成任何危害。

次氯酸發(fā)生器用0.3%的飽和鹽水和99.7%的水充分混合后, 利用目前先進的ECA方法進行電解，憑借獨有的陶瓷納米隔膜和二次電解技術生產出高濃度、高穩(wěn)定的次氯酸溶液，殺菌后可降解成鹽和水，既安全又環(huán)保。

次氯酸發(fā)生器的使用需要注重哪些方面？ 

需要保持次氯酸發(fā)生器清潔，經常去除鹽溶池底部的鹽污染，盡量不產生鹽污染進入電解池。日常的清潔是不可或缺的，只有做好日常的清潔，才能保證發(fā)生器的正常使

2 .需要檢查發(fā)電機循環(huán)管供水閥有無泄漏。如果發(fā)現(xiàn)泄漏的問題，需要立即修理或更換。否則會影響到發(fā)電機的正常使用，嚴重會影響水源的消毒，從而影響使用。

3 .工作結束后，需要用自來水反洗發(fā)生器。主要是為了防止次腐蝕內壁，去除鈣離子、鎂離子和其他堆積物。堆積物一旦過多就會影響到整體的使用，覆蓋在發(fā)生器的內壁，積累過多也會影響到發(fā)生器的消毒效果，甚至會直接損害發(fā)生器的質量。