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生產(chǎn)偏釩酸銨-偏釩酸銨-蕪湖人本合金釩價(jià)格

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發(fā)布時(shí)間:2023-04-12 02:09  





研磨時(shí)間對(duì)BiVO_(4)試樣光催化活性的影響

以偏釩酸銨(NH_(4)VO_(3))和五水合鉍(Bi(NO_(3))_(3)·5H_(2)O)為原料,采用固相法制備了釩酸鉍(BiVO_(4))光催化劑。采用X射線衍射(XRD)、紫外可見漫反射光譜(UV-Vis DRS)、掃描電子顯微鏡(SEM)和BET比表面積測試對(duì)試樣進(jìn)行表征。以亞藍(lán)(MB)的光催化降解反應(yīng)為探針,考察了研磨時(shí)間對(duì)BiVO_(4)試樣光催化活性的影響。結(jié)果表明:延長研磨時(shí)間,有利于提高BiVO_(4)試樣的結(jié)晶度,提高光吸收能力,偏釩酸銨,從而增強(qiáng)光催化活性,但過長的研磨時(shí)間會(huì)導(dǎo)致BiVO_(4)的比表面積下降;研磨時(shí)間為10 min時(shí),BiVO_(4)試樣具有佳的光催化活性;當(dāng)反應(yīng)條件為催化劑濃度1 g/L,室溫下光照反應(yīng)30 min時(shí),MB的降解率達(dá)到82.3%。


以工業(yè)偏釩酸銨為原料,生產(chǎn)偏釩酸銨,采用鎂鹽沉淀法

以工業(yè)偏釩酸銨為原料,采用鎂鹽沉淀法除去偏釩酸銨中硅、磷,并分析除硅、除磷機(jī)理,偏釩酸銨報(bào)價(jià),制備高純偏釩酸銨??疾炝怂岫?、溫度、鎂鹽用量、時(shí)間等因素對(duì)除硅、除磷的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果得出佳工藝條件為:pH為10、硫酸鎂用量按料液比:釩液(50 g/L)∶鎂液(0.6 mol/L)=8∶1、溫度80℃、反應(yīng)時(shí)間60 min,自然靜置60 min。并在此條件下,除磷率95%以上,除硅率84%以上,NH4VO3品位從98.37%提高到99.28%。


在氯化銨與偏釩酸鈉溶液反應(yīng)生成偏釩酸銨的沉淀過程中,探討偏釩酸鈉的初始濃度、加銨系數(shù)K、溶液pH值及溫度等因素對(duì)沉釩率的影響及沉淀動(dòng)力學(xué)。通過X射線衍射和紅外光譜對(duì)沉淀產(chǎn)物的微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征。結(jié)果表明:以30 g/L V2O5溶液進(jìn)行實(shí)驗(yàn),偏釩酸銨廠家,當(dāng)pH=8左右、以K=2加入氯化銨固體、溫度為50℃時(shí),沉釩率達(dá)到99%以上,動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)符合二級(jí)反應(yīng)速率方程;產(chǎn)品與偏釩酸銨標(biāo)準(zhǔn)圖譜一致;產(chǎn)品純度(質(zhì)量分?jǐn)?shù))為99.3%。


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