Parylene HT，該材料具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)、好的穩(wěn)定性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可450攝氏度，長期耐溫

        CVD（Chemical Vapor Deition）法：將對二和水蒸氣按一定比例混合，經 950~1000 °C高溫熱解，得到對二環(huán)二體(dimer)，隨后，經提純的二聚體在 120°C 的升華區(qū)內升華，在惰性氣體的推動下，二聚體進入溫度為 660°C 的裂解區(qū)，高溫下二聚體的分子鍵斷裂，生成活性的對二活性單體(monomer)，后在惰性氣體氣的推動下，活性單體在常溫或較低溫度下的真空沉積室里，在相應的基體材料的表面聚合沉積為parylene 薄膜。

       伴隨著耳機等產品的毛利的逐步下降以及小眾低價產品的沖擊，再加上貿易摩擦導致的成本上升和銷量的下降，許多制造商都在考慮進一步降低成本，比如在使用納米涂層這類輔助材料時也有很多制造商采購了一些市場上廉價的涂層產品，然而在著重考慮降成本的同時并未對材料是否真正環(huán)保做出檢測和評定，比如一款氣味低、不的納米涂層產品并不能代表他是無毒的，青山新材始終堅持做符合環(huán)保要求的涂層產品，從不為客戶提供有毒致癌的納米涂層。納米涂層僅指涂層是納米級厚度，但并非納米涂層就一定是環(huán)保涂層，這是兩個概念，一個是形態(tài)問題，一個是材料成分問題。

       近日我們與國內材料實驗室一道對市面上的一些廉價納米涂層的環(huán)保性能進行了分析檢測，檢測結果很驚人，發(fā)現(xiàn)有些涂層含有、等物質，、是無色透明不燃燒的，被一些廉價納米涂層產品所采用，可以表象上給人以不燃燒、膜層薄、氣味較低、固化快等迷惑性特征，商家只注重于宣稱是納米涂層，然而其所包含的這些物質都屬于致癌物類別，長期接觸將對人體產生極大的危害。由于這些涂層原材料廉價因而可以以很低的價格售賣。

       與化學吸附自限制過程不同，順次反應自限制原子層沉積過程是通過活性前驅體物質與活性基體材料表面化學反應來驅動的。這樣得到的沉積薄膜是由于前驅體與基體材料間的化學反應形成的。圖a和b分別給出了這兩種自限制反應過程的示意圖。由圖可知，化學吸附自限制過程的是由吸附前驅體1（ML2）與前驅體2（AN2）直接反應生成MA原子層（薄膜構成），主要反應可以以方程式⑴表示。對于順次反應自限制過程首先是活化劑（AN）活化基體材料表面；然后注入的前驅體1（ML2）在活化的基體材料表面反應形成吸附中間體（AML），這可以用反應方程式⑵表示。反應⑵隨著活化劑AN的反應消耗而自動終止，具有自限制性。當沉積反應前驅體2（AN2）注入反應器后，就會與上述的吸附中間體反應并生成沉積原子層。

       原子層沉積是在一個加熱反應器中的襯底上連續(xù)引入至少兩種氣相前驅體物種，化學吸附的過程直至表面飽和時就自動終止，適當?shù)倪^程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。

       目前可以沉積的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金屬，碳化物，復合結構，硫化物，納米薄層等。 中空納米管，隧道勢壘層，光電電池性能的提高，納米孔道尺寸的控制，高高寬比納米圖形，微機電系統(tǒng)（MEMS）的反靜態(tài)阻力涂層和疏水涂層的種子層，納米晶體，ZnSe涂層，納米結構，中空納米碗，存儲硅點涂層，納米顆粒的涂層，納米孔內部的涂層，納米線的涂層。